[实用新型]方便维护的镀膜设备无效
| 申请号： | 201020638242.0 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN201883144U | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 唐以邻;唐世杰 | 申请（专利权）人： | 八阳光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军;顾以中 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方便 维护 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种方便维护的镀膜设备，可在一个待镀物上沉积一层薄膜，包含：一个中空的腔体、一个安装在该腔体内的电极，该电极包括一个朝向该待镀物的电极表面；其特征在于：该镀膜设备还包含一个可拆离地盖设在该电极表面上且可导电的筛隔件，该筛隔件设有数个贯穿的筛隔穿孔。
2.根据权利要求1所述的方便维护的镀膜设备，其特征在于：该镀膜设备还包含一个将该筛隔件可拆离地安装在该电极上的安装单元。
3.根据权利要求2所述的方便维护的镀膜设备，其特征在于：该电极还包括数个横向地贯穿的散热孔。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
