[实用新型]用于清洗仪表探头的气洗装置及氢氟处理系统有效
| 申请号： | 201020639425.4 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN201940399U | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王兴宇;张云秀;赵记;杨文俊;厉晓华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;C02F1/58;C02F101/14 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 清洗 仪表 探头 装置 处理 系统 | ||
1.一种用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，包括：仪表探头保护套和气洗机构，所述仪表探头容置于所述仪表探头保护套内，所述气洗机构包括基座和设于所述基座内的喷嘴，所述基座和所述仪表探头保护套连接，所述喷嘴与所述仪表探头相对，且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内，且所述喷嘴经高压气管与供气源连接。
2.如权利要求1所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述基座和仪表探头保护套采用螺纹连接。
3.如权利要求1所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述仪表探头保护套在对应仪表探头处的侧壁开有观察窗口。
4.如权利要求1所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述仪表探头保护套采用PVC材质。
5.如权利要求1所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述基座采用PVC材质。
6.如权利要求1所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述仪表探头设有数据线，所述数据线外设有数据线保护套，且所述数据线保护套和所述仪表探头保护套连接。
7.如权利要求6所述的用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，所述数据线保护套采用PP材质。
8.一种氢氟处理系统，用于处理含氢氟酸废水，包括反应罐，所述反应罐中设有CaCL2输入管、NaOH输入管和若干仪表探头，其特征在于，还包括清洗仪表探头的气洗装置，所述清洗仪表探头的气洗装置包括仪表探头保护套和气洗机构，所述仪表探头容置于所述仪表探头保护套内，所述气洗机构包括基座和设于所述基座内的喷嘴，所述基座和所述仪表探头保护套连接，所述喷嘴与所述仪表探头相对，且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内，且所述喷嘴经高压气管与设有所述反应罐外部的供气源连接。
9.如权利要求8所述的氢氟处理系统，其特征在于，所述反应罐有两个，前反应罐的输出口和后反应罐的输入口相接。
10.如权利要求9所述的氢氟处理系统，其特征在于，还包括促凝反应罐，所述促凝反应罐的输入口和所述后反应罐的输出口相接，所述促凝反应罐内设有PAM输入管。
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