[实用新型]压舱水处理系统有效

专利信息
申请号: 201020649690.0 申请日: 2010-12-09
公开(公告)号: CN201923865U 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 哈罗德·E·奇尔德斯;R·费尔南德斯;鲁道夫·马陶谢克;J·B·穆尔 申请(专利权)人: 赛温德罗有限公司
主分类号: C02F1/461 分类号: C02F1/461;C02F1/76
代理公司: 北京市路盛律师事务所 11326 代理人: 唐超尘
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 水处理 系统
【权利要求书】:

1.一种用于处理压舱水的系统,其包括:

一个或多个与水源流体连通的电解池,该电解池适于从水源供给的水中产生一种或多种氧化剂;

用于测定与压舱水相关的一个或多个参数的一个或多个装置;

测定压舱水的第一氧化/还原电位的第一氧化/还原电位(ORP)探针;

用于对电解池产生的氧化剂的量进行控制的装置,该用于控制的装置包括:

使所述一个或多个参数与压舱水的所需卤素含量相关联并且使测定的第一氧化/还原电位与压舱水的第一实际卤素含量相关联的关联装置;以及

用于根据压舱水的所需卤素含量与压舱水的实际卤素含量的比较值调节施加在电解池上的电流强度和电压中的至少一个的装置。

2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括:

用于对压舱水进行脱卤的脱卤系统,其包括:

测定压舱水的第二氧化/还原电位的第二氧化/还原电位(ORP)探针;

与压舱水流体连通的还原剂源;以及

用于对供给到压舱水中的还原剂的量进行控制的装置,所述用于对还原剂的量进行控制的装置包括:

使测定的压舱水的第二氧化/还原电位与压舱水的第二实际卤素含量相关联的关联装置,其中根据压舱水的第二实际卤素含量确定供给到压舱水的还原剂的量。

3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还原剂源包括:

还原剂槽;

与还原剂槽流体连通的泵;并且

该泵与用于控制还原剂的量的装置连通。

4.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还原剂源包括从由亚硫酸钠、偏亚硫酸氢钠、亚硫酸氢钠、二氧化硫和硫代硫酸钠组成的组中选择的一种或多种还原剂。

5.如权利要求2所述的系统,其特征在于,压舱水存储在船上的一个或多个压载舱中,并且所述系统还包括用于将压舱水从船中排出的排放装置,该排放装置包括:

与压载舱流体连通的一个或多个排放泵;以及

与排放装置流体连通的排放管路。

6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,

水源是压舱水,并且供给到电解池的水是从压舱水中提取的支流,

第一ORP探针在压舱水与从电解池中排出并包含氧化剂的水混合之后测定压舱水的第一氧化/还原电位,以及

第二ORP探针在压舱水从压载舱中排出之后且在排放装置从船中排出压舱水之前测定压舱水的第二氧化/还原电位。

7.如权利要求6所述的系统,其特征在于,脱卤系统与排放装置流体连通。

8.如权利要求1所述的系统,其特征在于,用于测定与压舱水相关的一个或多个参数的一个或多个装置包括以下部件中的至少一个:

流量计,以及

总有机碳分析器,

由流量计测定的参数是压舱水的流速并且由总有机碳分析器测定的参数是压舱水中存在的有机源的碳浓度。

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