[实用新型]一种盘式双工位真空灭弧室无效

专利信息
申请号: 201020652909.2 申请日: 2010-12-10
公开(公告)号: CN201886958U 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 曹云东;刘晓明;侯春光;杜鹏飞 申请(专利权)人: 沈阳工业大学
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 代理人: 韩辉
地址: 110178 辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 双工 真空 灭弧室
【权利要求书】:

1.一种盘式双工位真空灭弧室,包括盘式绝缘外壳、真空灭弧室及设置在真空灭弧室内部的静触头和动触头,其特征在于所述真空灭弧室为与绝缘轴(1)相连的盘式真空灭弧室(7),该盘式真空灭弧室(7)内部设有2对静触头(5)和2对动触头(3),所述绝缘轴(1)一端与动力源相连接,另一端则从盘式真空灭弧室(7)的圆心处伸进盘式真空灭弧室(7)内部与导体转杆(4)中间部分相连接,静触头(5)固定在与盘式绝缘外壳(6)一体的静触头基座(2)上,导体转杆(4)两端的端面上分别安装有动触头(3),导体转杆(4)在绝缘轴(1)旋转力的驱动下带动动触头(3)作正、反旋转接通任意一对静触头(5)。

2.根据权利要求1所述盘式双工位真空灭弧室,其特征在于所述盘式真空灭弧室(7)内部的导体转杆(4)主体为直线型,两端呈弧线形,整体长度小于盘式真空灭弧室(7)圆盘的直径,2对动触头(3)分别安装在导体转杆(4)两端的端面上。

3.根据权利要求1所述盘式双工位真空灭弧室,其特征在于每对静触头在真空灭弧室内部呈对称位置,即静触头a与静触头b为一对静触头(5)、静触头c与静触头d为另一对静触头(5)。

4.根据权利要求3所述盘式双工位真空灭弧室,其特征在于所述的2对静触头(5)分别接入2路回路中,即静触头a与静触头b为一对静触头(5)、静触头c与静触头d为另一对静触头(5)分别接入2路回路中。

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