[实用新型]一种清洗真空吸盘定位部件的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种集成电路制造过程中的清洗技术，特别是一种清洗真空吸盘定位部件的装置。

背景技术

如图1所示，标线真空吸盘定位部件(reticle vacuum pad position)通常位于光罩薄膜面边缘的4个角(corner)上，用于提供放置真空吸盘的位置。在光罩盒的开合过程中，光罩真空吸盘定位部件会经常与光罩盒之间接触，常时间使用就会形成对真空吸盘定位部件的脏污，进一步污染机台的真空吸盘，从而对材料的品质造成影响。

因此，有必要定期对真空吸盘定位部件进行清洗。但是目前的清洗方法一般是将光罩盒的上盖打开，并直接对光罩盒上方的真空吸盘定位部件进行擦拭。由于采用该方法擦拭时，光罩薄膜(pellicle)面直接向上放在光罩盒上，在擦拭真空吸盘定位部件的过程中有可能会刮伤光罩薄膜，从而对后续的工序造成影响。

实用新型内容

针对现有技术的上述缺点和不足，本实用新型的目的是提供一种清洗真空吸盘定位部件的装置，可以有效地清洗真空吸盘定位部件而不会刮伤光罩薄膜。

本实用新型清洗真空吸盘定位部件的装置，包括：

上盖和基板，所述上盖与基板通过合叶连接，上盖沿合叶转动，从而使上盖与基板间开启和闭合；

其中，光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板上方，并且在上盖和基板闭合时，上盖完全覆盖光罩薄膜，而不覆盖真空吸盘定位部件。

作为上述技术方案的优选，上盖和基板的闭合面均为矩形。

作为上述技术方案的优选，在上盖和基板上位于合叶相对面的位置，还包括相互配合的第一卡簧。

作为上述技术方案的优选，在上盖和基板上位于合叶两个相邻面的位置，还分别包括相互配合的第二卡簧。

作为上述技术方案的优选，在所述第二卡簧上还设置有第一支撑。

作为上述技术方案的优选，在基板的闭合面的四个顶角区域还设置有四个第二支撑。

作为上述技术方案的优选，所述上盖的闭合面的尺寸为12cm×15cm。

作为上述技术方案的优选，所述四个第二支撑形成的面的尺寸为15cm×15cm。

本实用新型清洗真空吸盘定位部件的装置，在上盖和基板闭合时，上盖完全覆盖光罩薄膜，而不覆盖真空吸盘定位部件，因此在清洗基板上的真空吸盘定位部件时，可以直接将上盖闭合，由于上盖对被覆盖的光罩薄膜具有保护作用，不会因擦拭真空吸盘定位部件而刮伤光罩薄膜，因此能够更有效地清洗真空吸盘定位部件。

附图说明

图1为现有技术中真空吸盘定位部件的位置图；

图2为本申请一实施例的立体图；

图3为图2所示实施例的平面图。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详细说明。对于所属技术领域的技术人员而言，从对本实用新型的详细说明中，本实 用新型的上述和其他目的、特征和优点将显而易见。

图2所示为本申请清洗真空吸盘定位部件的装置的一优选实施例的立体图。如图所示，该装置包括有上盖10和基板20，所述上盖10与基板20通过合叶2连接，上盖10沿合叶2转动，从而使上盖10与基板20开合。上盖10和基板20可以具有各种形状。作为优选，上盖10和基板20的闭合面(在上盖10闭合时，上盖10与基板20相对的面)均为矩形。

同时，为了使得上盖10和基板20之间比较好的闭合，以及使位于基板20上方的光罩较好地被固定，从而使得上盖10起到保护薄膜的作用，可以在矩形的上盖10和基板20上位于合叶2相对面的位置，包括相互配合的第一卡簧1。

此外，在矩形的上盖10和基板20上位于合叶2两个相邻面的位置，还分别包括相互配合的第二卡簧102。作为优选，在第二卡簧102上还设置有第一支撑3，用于起加固光罩、防止光罩在光罩盒内滑动的作用。

此外，还可以在基板20的矩形的四个顶角区域设置有四个第二支撑302，用于进一步起加固光罩、防止光罩在光罩盒内滑动的作用。

光罩薄膜和真空吸盘定位部件位于基板20上方，并且在上盖10和基板20闭合时，上盖10完全覆盖光罩薄膜，而不覆盖真空吸盘定位部件。如图3的平面图所示，基板20上的方框表示为光罩薄膜，在上盖10和基板20闭合后，该光罩薄膜被上盖10完全覆盖，而第二支撑302所在的区域，以及真空吸盘定位部件所在区域不被上盖10覆盖。优选上盖的闭合面的尺寸为12cm×15cm，四个第二支撑形成的面的尺寸为15cm×15cm。