[实用新型]一种用于硅片清洗后的快速干燥装置有效
申请号: | 201020662808.3 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN201935527U | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 盛方毓;冯泉林;闫志瑞;葛钟;库黎明;索思卓 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | F26B5/00 | 分类号: | F26B5/00;F26B21/14;H01L21/00 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 郭佩兰 |
地址: | 100088*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 硅片 清洗 快速 干燥 装置 | ||
1.一种用于硅片清洗后的快速干燥装置,其特征在于:它包括:多孔螺旋式高压雾化装置,控温加热室,干燥槽,阀门组,氮气供应管路,其中氮气主管路将多孔螺旋式高压雾化装置、加热控温室、干燥槽依次串联,同时在氮气主管路入口位置引入一条氮气旁路,该旁路管道通过阀门接一三通,三通另二个出口分别接在多孔螺旋式高压雾化装置出口、加热控温室入口,高压雾化装置进、出口分别设阀门1和阀门2。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗后的快速干燥装置,其特征在于:多孔螺旋式高压雾化装置是中空螺旋管,螺旋管的中空直径控制在2-3mm之间。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗后的快速干燥装置,其特征在于:所述的雾化装置的下部有一出口,出口接阀门,阀门接异丙醇收回处,回收处通过阀门再与IPA供应处的容器相连。
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