[实用新型]一种化学机械研磨设备

权利要求书

1.一种化学机械研磨设备，用于研磨晶圆，包括基座，其特征在于，还包括设置于所述基座上方的转台、修整器、研磨垫、研磨头、机械臂以及研磨垫更换装置，其中：

所述转台上方固定放置所述晶圆，所述晶圆的待研磨面朝上；

所述修整器位于所述转台旁；

所述研磨垫的研磨面朝下；

所述研磨头的下方固定所述研磨垫，能够带动所述研磨垫旋转；

所述机械臂的臂手下方固定所述研磨头，能够带动所述研磨垫移动；以及

所述研磨垫更换装置位于所述转台旁，包括废旧研磨垫收集装置和新研磨垫供应装置。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述化学机械研磨设备包括多个转台。

3.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨垫为圆形，且尺寸小于、等于所述晶圆的尺寸。

4.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述机械臂与所述研磨头之间还设置有压力调节装置。

5.如权利要求4所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述压力调节装置包括压缩空气喷头、及设置于所述压缩空气喷头上的压力调节阀。

6.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述新研磨供应装置 内放置新研磨垫，在所述新研磨垫供应装置中设置有去离子水喷头，喷水方向对向所述新研磨垫。

7.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述转台上方还设置有清洗装置，包括去离子水喷管和研磨液喷管。