[实用新型]钛溅射环、应用该钛溅射环的溅射反应器有效
| 申请号： | 201020692637.9 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN201918355U | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;陈勇军 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 应用 反应器 | ||
【权利要求书】：
1.一种钛溅射环，该钛溅射环上具有花纹，其特征在于，所述花纹的大小大于80TPI、小于20TPI。
2.根据权利要求1所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹的大小为大于45TPI，且小于25TPI。
3.根据权利要求2所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹的大小为大于40TPI，且小于30TPI。
4.根据权利要求1所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于100μm，且小于800μm。
5.根据权利要求4所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于300μm，且小于700μm。
6.根据权利要求5所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于400μm，且小于600μm。
7.根据权利要求1所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹由多个菱形结构重复排列形成。
8.根据权利要求7所述的钛溅射环，其特征在于，所述花纹采用滚花的方式制作。
9.根据权利要求1所述的钛溅射环，其特征在于，所述钛溅射环应用于8英寸衬底上进行溅射过程。
10.一种溅射反应器，包括：
真空室，具有围绕中心轴线布置的侧壁；
溅射靶材，被密封到所述真空室的一端；
基座，沿所述中心轴线布置成与所述溅射靶材相对，用于支撑待处理的晶片；及
如权利要求1至9任一项所述的钛溅射环，所述钛溅射环位于所述真空室内，并位于所述溅射靶材与所述基座之间。
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