[实用新型]真空灭弧室无效
| 申请号： | 201020693478.4 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN201985027U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | D·根奇 | 申请（专利权）人： | ABB技术股份公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 董华林 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 | ||
【权利要求书】：
1.真空灭弧室，两个触头元件在该真空灭弧室内能打开和闭合并且设置在朝外封闭的真空中，其特征在于：在位于真空灭弧室内部的铜构件内的元件中，设置侧向的盲孔(2)，除气材料作为粉末材料安放在盲孔中并且用筛子(4)封闭。
2.按权利要求1所述的真空灭弧室，其特征在于：除气粉末在其颗粒尺寸方面确定成：所述颗粒尺寸大于筛子的最小的网眼尺寸。
3.按权利要求1或2所述的真空灭弧室，其特征在于：所述筛子用银涂层，并且在压入所述盲孔中之后是钎焊的。
4.按权利要求1或2所述的真空灭弧室，其特征在于：所述盲孔(2)设置在触头杆(1)中。
5.按权利要求3所述的真空灭弧室，其特征在于：所述盲孔(2)设置在触头杆(1)中。
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