[发明专利]带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜及其制造装置有效

专利信息
申请号: 201080001708.9 申请日: 2010-02-12
公开(公告)号: CN102046370A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 加川清二;加川洋一郎 申请(专利权)人: 加川清二
主分类号: B32B15/08 分类号: B32B15/08;H05K9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 线状 痕迹 金属 薄膜 塑料 复合 及其 制造 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及适合电磁波吸收性能的各向异性低的电磁波吸收体的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜及其制造装置。

背景技术

在个人电脑、移动电话、收费公路的自动收费系统(ETC)、无线LAN等电子设备或通讯设备的系统中,使用用于防止电磁波泄漏和进入的电磁波吸收体。对于电磁波吸收体,不仅要求能够很好地吸收宽范围频率的电磁波,而且还要求不同入射方向的电磁波吸收性能的差(电磁波吸收性能的各向异性)小。另外,在ETC等使用圆偏振波的系统中,还需要有效地吸收TE波(电场成分与入射面垂直的电磁波)及TM波(磁场成分与入射面垂直的电磁波)两者,期望满足所述要求的电磁波吸收体。

目前广泛使用的是由金属的片或网构成的电磁波吸收体,近来也提出了在塑料片上形成了金属蒸镀膜的电磁波吸收片。例如,日本特开平9-148782号提出了一种电磁波吸收片,其由塑料膜和在其两面上形成的第一及第二铝蒸镀膜构成,第一铝蒸镀膜被蚀刻为非导通的线状图案,第二铝蒸镀膜蚀刻为网状的导通图案。但是,该电磁波吸收片的线状图案及网状图案均为规则的图案,因此,不能有效地吸收宽范围频率的电磁波,而且电磁波吸收性能的各向异性大。

日本特开平11-40980号中提出了在塑料膜的一面依次形成有铜蒸镀层及镍蒸镀层的电磁波屏蔽材料。但是,该电磁波屏蔽材料不仅电磁波吸收性能不充分,而且电磁波吸收性能的各向异性也大。

发明内容

因此,本发明的目的在于,提供适合于不仅对各种频率的电磁波具有良好的吸收性能且电磁波吸收性能的各向异性低的电磁波吸收体的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜及其制造装置。

本发明人鉴于上述目的进行了深入研究,结果发现:(a)在塑料膜上形成的金属薄膜上以不规则的宽度及间隔沿多个方向形成许多实质上平行且断续的线状痕迹时,可以得到不仅对各种频率的电磁波具有良好的吸收性能、而且电磁波吸收性能的各向异性低的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜,及(b)这样的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜,可以通过在金属薄膜上以轴线方向不同的方式配置表面具有许多高硬度微粒的多个图案辊的装置来制造,从而想到了本发明。

即,电磁波吸收性能的各向异性减小的本发明的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜,其特征在于,具有塑料膜和在其至少一面上设置的单层或多层金属薄膜,所述金属薄膜上以不规则的宽度及间隔沿多个方向形成有许多实质上平行且断续的线状痕迹。所述金属薄膜优选由铝、铜、镍或它们的合金形成。

所述线状痕迹的宽度优选90%以上在0.1~1000μm的范围内,平均为1~100μm。所述线状痕迹的间隔优选在0.1μm~5mm的范围内,平均为1~100μm。所述线状痕迹优选沿至少两个方向取向,且其交叉角为10~90°。

制造上述带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜的本发明的装置,其特征在于,具备为了在金属薄膜-塑料复合膜的金属薄膜上形成线状痕迹而配置的表面具有许多高硬度微粒的多个图案辊、和将所述图案辊按压到所述复合薄膜上的机构,所述多个图案辊在与所述复合薄膜的金属薄膜滑动接触的面内朝向不同的方向,由此通过使所述金属薄膜与所述多个图案辊依次滑动接触,在所述金属薄膜上沿多个方向形成许多实质上平行且断续的线状痕迹。

本发明的一个实施方式的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜的制造装置(第一装置),具有两个图案辊,且两个图案辊在所述复合薄膜的宽度方向上相互向相反的一侧倾斜。

第一装置的优选例,其特征在于,具备:(a)上游侧的第一图案辊,表面具有许多高硬度微粒,沿着与所述复合薄膜的宽度方向不同的方向配置;(b)下游侧的第二图案辊,表面具有许多高硬度微粒,以与所述复合薄膜的宽度方向不同的方向配置在与所述第一图案辊相反的一侧;和(c)多个按压辊,配置在所述第一及第二图案辊的周边;使所述金属薄膜在由按压辊按压的状态下与所述第一及第二图案辊滑动接触,由此在所述金属薄膜上沿多个方向形成许多实质上平行且断续的线状痕迹。

本发明的另一实施方式的带线状痕迹的金属薄膜-塑料复合膜的制造装置(第二装置),具有两个图案辊,一个图案辊与所述复合薄膜的宽度方向平行,另一个图案辊相对于所述复合薄膜的宽度方向倾斜。

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