[发明专利]校准辐照装置的方法和装置

权利要求书

1.一种对用于生产地制作三维物体(3)的设备的辐照装置(7，9)进行校准的方法，其中所述设备将粉末状或液态的构造材料(11)一层一层地涂覆到所述设备的支架(5)上或者涂覆到之前已涂覆的层上，其中已涂覆的层限定工作面(6)，由所述辐照装置(7，9)利用含能量的辐射(8′)在对应于所述物体的位置照射所述构造材料(11)，以便硬化在这些位置的构造材料(11)，其中所述方法包括以下步骤：

将图像转换板(12)布置在工作面(6)中或者平行于该工作面，其中，当辐照装置(7，9)利用含能量的辐射(8′)照射图像转换板(12)的预定位置时，图像转换板(12)发出能检测的光(13)，

由辐照装置(7，9)对图像转换板(12)进行扫描；

由光探测器(15)检测所述能检测的光(13)；

当检测到能检测的光(13)时，确定辐照装置(7，9)的坐标；

将所确定的坐标与预先设定的参考坐标进行比较；以及

根据所确定的坐标和所述参考坐标之间的偏差对辐照装置(7，9)进行校准。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，图像转换板(12)具有基底(18)和孔眼掩模(16)，其中图像转换材料(19)设置在该基底(18)上，孔(17)对应于图像转换板(12)的所述预定位置地位于所述孔眼掩模(16)中，其中所述能检测的光(13)能穿透所述基底(18)。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述的孔(17)对准所述含能量的辐射(8′)的入射方向。

4.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中所述图像转换板具有基底，在该基底上仅在图像转换板的所述预定位置处涂覆图像转换材料，其中能检测的光能穿透所述基底。

5.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中光探测器(15)被布置在图像转换板(12)的下方。

6.根据上述权利要求中任一项所述的方法，所述光探测器(15)是CCD芯片、光电二极管或者摄像机。

7.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中将所述能检测的光(13)聚焦到光探测器(15)的光学聚焦装置(14)被布置在图像转换板(12)和光探测器(15)之间。

8.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中所述辐照装置(7，9)具有辐射源(7)和将所述辐射源(7)发射的含能量的辐射(8′)偏转到工作面(6)内任意位置的偏转装置(9)，并且所述偏转装置(9)基于所确定的坐标和参考坐标之间的偏差而被校准。

9.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中图像转换板(12)将激光(8′)转变成可见光(13)或者近红外光(13)。

10.一种用于执行上述权利要求中任一项所述方法的装置，包括：

能够布置在工作面(6)中或者与该工作面平行的图像转换板(12)，其中当辐照装置(7，9)利用含能量的辐射(8′)照射所述图像转换板(12)的预定位置时，所述图像转换板(12)发出能检测的光(13)；

对所述图像转换板(12)发出的能检测的光(13)进行检测的光探测器(15)；以及

分析装置(40)，当检测到所述能检测的光(13)时，所述分析装置确定辐照装置(7，9)的坐标，将所确定的坐标与预先设定的参考坐标进行比较，并且基于所确定的坐标与所述参考坐标之间的偏差，对所述辐照装置(7，9)进行校准。