[发明专利]镍合金溅射靶及镍硅化物膜有效
| 申请号： | 201080002740.9 | 申请日： | 2010-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN102165094A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 山越康广 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03;H01L21/28;H01L21/285;C22B9/22;C22B23/06;C22F1/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镍合金 溅射 镍硅化物膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种镍合金溅射靶，其特征在于，含有22～46重量％的铂，以及5～100重量ppm的选自铱、钯、钌的一种以上的成分，其余包含镍及不可避免的杂质。
2.一种镍硅化物膜，其通过使用镍合金靶进行溅射在硅衬底上形成镍合金膜，并通过该镍合金膜与硅衬底反应而形成，所述镍合金靶含有22～46重量％的铂，以及5～100重量ppm选自铱、钯、钌的一种以上的成分，其余包含镍及不可避免的杂质，所述镍合金膜的特征在于，该镍硅化物膜的从NiSi向NiSi2转变的相变温度为750℃以上。
3.如权利要求2所述的镍硅化物膜，其特征在于，从NiSi向NiSi2转变的相变温度为800℃以上。
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