[发明专利]有机电致发光显示器及其制造方法有效
申请号: | 201080003173.9 | 申请日: | 2010-01-21 |
公开(公告)号: | CN102210193A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 宫泽和利;中桥昭久 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;G09F9/00;H01L51/50;H05B33/12;H05B33/26;H05B33/28 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张劲松 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 电致发光 显示器 及其 制造 方法 | ||
1.有机电致发光显示器的制造方法,包括:
准备具有基板和呈矩阵状地配置在所述基板上的有机电致发光元件的有机电致发光面板的步骤,所述有机电致发光元件分别具有配置在所述基板上的像素电极、配置在所述像素电极上的有机层、配置在所述有机层上的透明对向电极、配置在所述透明对向电极上的保护层及配置在所述保护层上的滤色片;
检测存在于所述有机电致发光元件内的所述有机层上的缺陷部的步骤;
对所述透明对向电极中的所述缺陷部上的区域,透过所述滤色片来照射激光,破坏所述区域的透明对向电极的步骤;以及
去除所述滤色片中的所述缺陷部上的区域的步骤。
2.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述照射的激光的波长为400nm以下。
3.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述去除滤色片的步骤与所述破坏透明对向电极的步骤为同一步骤。
4.如权利要求3所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为红色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长小于600nm。
5.如权利要求3所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为绿色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长小于480nm或者大于580nm而小于790nm。
6.如权利要求3所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为蓝色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长小于430nm或者大于500nm而小于850nm。
7.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述去除滤色片的步骤与所述破坏透明对向电极的步骤为不同的步骤,所述滤色片的去除通过对所述滤色片中的所述缺陷部上的区域照射激光来进行。
8.如权利要求7所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为红色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长为600nm以上。
9.如权利要求7所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为绿色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长为480nm~580nm或者790nm以上。
10.如权利要求7所述的有机电致发光显示器的制造方法,所述被去除的滤色片为蓝色,对所述透明对向电极照射的所述激光的波长为430nm~500nm或者850nm以上。
11.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,在所述去除滤色片的步骤中,在所述滤色片上形成贯穿痕。
12.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,在所述去除滤色片的步骤中,使所述滤色片变薄。
13.如权利要求1所述的有机电致发光显示器的制造方法,通过所述激光的照射而在所述保护层内形成微小的气泡。
14.有机电致发光显示器,其具有基板和呈矩阵状地配置在所述基板上的有机电致发光元件,所述有机电致发光元件分别具有配置在所述基板上的像素电极、配置在所述像素电极上的有机层、配置在所述有机层上的透明对向电极、配置在所述透明对向电极上的保护层及配置在所述保护层上的滤色片,
至少一个所述有机电致发光元件在所述有机层上具有缺陷部,
所述透明对向电极中的所述缺陷部上的区域被破坏,所述滤色片中的所述缺陷部上的区域被去除。
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