[发明专利]气雾压浴系统有效

专利信息
申请号: 201080003631.9 申请日: 2010-06-12
公开(公告)号: CN102256583A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 中村正一 申请(专利权)人: 中村正一;日本ACP株式会社
主分类号: A61H33/02 分类号: A61H33/02;A61H33/12;A61H33/14
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 桑传标;周建秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 气雾压浴 系统
【权利要求书】:

1.一种气雾压浴系统,该气雾压浴系统为用于使气雾与机体的皮肤和粘膜接触的系统,所述气雾为通过将规定值以上浓度的气体与液体雾化溶解而得到的气雾,所述气体为二氧化碳、氧气或者二氧化碳和氧气的混合气体、二氧化碳和空气的混合气体(以下简称“气体”),其特征在于,所述气雾压浴系统包括:

用于供给所述气体的气体供给单元;

液体供给单元;

气雾供给单元,该气雾供给单元通过来自所述气体供给单元的气流所产生的负压来吸引所述液体并使所述液体与所述气体冲击,从而生成并供给由所述气体与液体雾化溶解而得到的雾(以下简称“气雾”);和

机体罩部件,该机体罩部件用于覆盖所述机体的皮肤和粘膜,以形成将所述气雾供给单元供给的气雾封入内部的空间,

所述气雾供给单元包括气雾供给压力调整单元,该气雾供给压力调整单元使所述气雾供给单元的内部能够和外部连通,同时通过改变该连通状态来调节外部气体的吸入量,从而调整供给到所述机体罩部件的气雾的供给压力。

2.根据权利要求1所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾压浴系统还包括:

传感器,该传感器用于测量所述气体、液体以及气雾的供给状态;和

控制单元,该控制单元根据所述传感器的测量值控制所述气体、液体以及气雾的供给。

3.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给压力调整单元包括储气部,该储气部的气体代替所述外部气体被吸入到所述气雾供给单元内部。

4.根据权利要求3所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述储气部内的气体为二氧化碳、氧气、二氧化碳和氧气的混合气体、二氧化碳和空气的混合气体或气雾中的任意一种。

5.根据权利要求2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述控制单元间歇性地向所述机体罩部件内供给所述气雾,以对所述机体罩部件进行间歇加压。

6.根据权利要求2或3所述的气雾压浴系统,其特征在于,通过所述气雾供给压力调整单元间歇性地向所述机体罩部件内加压供给所述外部气体或者所述储气部的气体,以对所述机体罩部件进行间歇加压。

7.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体为水、离子水、臭氧水、生理食盐水、蒸馏水、纯净水、无菌纯净水或者含有药剂的液体中的任意一种或多种的组合。

8.根据权利要求7所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体还含有薄荷醇、维生素E、维生素C衍生物、松香油、麻醉剂、环糊精、光催化剂、光催化剂和磷灰石的复合体、透明质酸、辅酶Q10、棉籽油、蜂巢蜡胶、乙醇、葡萄糖酸氯己定、两性表面活性剂、苯扎氯铵、乙酸烷基二氨基醚甘氨酸、次氯酸钠、过乙酸、倍半碳酸钠、二氧化硅、聚维酮碘、碳酸氢钠、高浓度碳酸泉剂、抗变态反应药、抗炎药、解热镇痛药、抗真菌药、抗流感病毒药、抗癌药、降压药、化妆剂、增毛剂、生毛剂或育毛剂中的任意一种或多种。

9.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体以加温的状态供给到所述气雾供给单元。

10.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体以加热的状态供给到所述气雾供给单元。

11.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,由所述气雾供给单元供给到所述机体罩部件内的所述雾的粒径为10μm以下。

12.根据权利要求2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述控制单元将气雾压浴时的所述机体罩部件内的压力保持在1.02个大气压至2.5个大气压。

13.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾压浴系统还包括电荷施加单元,该电荷施加单元用于对所述气雾供给单元供给的雾施加电荷。

14.根据权利要求8所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述电荷为负电荷。

15.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给单元具有用于向所述机体罩部件内供给气雾的气雾供给管,

该气雾供给管的全部或部分由波纹管构成。

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