[发明专利]X射线成像装置和X射线成像方法有效
申请号: | 201080004291.1 | 申请日: | 2010-01-15 |
公开(公告)号: | CN102272860A | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G21K1/06 | 分类号: | G21K1/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 卜荣丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 方法 | ||
1.一种X射线成像装置,包括:
分离元件,空间地分离由X射线产生器产生的X射线;
第一衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第一衰减元件上;
第二衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第二衰减元件上,该第二衰减元件被设置为与第一衰减元件相邻;和
检测单元,被配置为检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度,
其中,第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变,并且,
其中,第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。
2.根据权利要求1的X射线成像装置,还包括:
计算单元,被配置为通过使用从由检测单元检测的X射线的强度计算的X射线透过率,计算被检体的微分相位图像或相位图像。
3.根据权利要求2的X射线成像装置,
其中,计算单元从由检测单元检测的X射线的强度计算被检体的透过率图像。
4.根据权利要求1~3中的任一项的X射线成像装置,
其中,第二衰减元件的厚度在与入射在第二衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上恒定。
5.根据权利要求1~4中的任一项的X射线成像装置,
其中,第二衰减元件的密度在与入射在第二衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上恒定。
6.根据权利要求1~5中的任一项的X射线成像装置,
其中,第二衰减元件是上面设置有第一衰减元件的基板。
7.根据权利要求1~5中的任一项的X射线成像装置,
其中,第二衰减元件是在上面设置有第一衰减元件的基板中形成的开口。
8.根据权利要求1~7中的任一项的X射线成像装置,
其中,第一衰减元件的厚度在与入射在第一衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上连续改变。
9.根据权利要求1~7中的任一项的X射线成像装置,
其中,第一衰减元件的密度在与入射在第一衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上连续改变。
10.根据权利要求8的X射线成像装置,
其中,第一衰减元件是具有三角棱柱形状的结构。
11.一种在X射线成像装置中使用的X射线成像方法,该方法包括:
产生X射线;
空间地分离X射线;
使空间地分离的X射线入射在第一衰减元件和第二衰减元件上,该第二衰减元件被设置为与该第一衰减元件相邻;
检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度;和
通过使用被检体的X射线透过率计算被检体的微分相位图像或相位图像,该X射线透过率是从检测到的X射线的强度计算的,
其中,第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变,并且,
其中,第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。
12.一种X射线成像装置,包括:
第一元件,被配置为获得第一强度数据;
第二元件,被配置为获得第二强度数据,该第二元件被设置为与第一元件相邻;和
计算单元,被配置为基于从第二强度数据获得的被检体的X射线透过率,从第一强度数据计算由于被检体导致的X射线的相位偏移量。
13.一种X射线成像方法,包括:
通过使用第一元件获得第一强度数据;
通过使用第二元件获得第二强度数据;和
基于从第二强度数据获得的被检体的X射线透过率,从第一强度数据计算由于被检体导致的X射线的相位偏移量。
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