[发明专利]X射线成像装置和X射线成像方法有效

专利信息
申请号: 201080004291.1 申请日: 2010-01-15
公开(公告)号: CN102272860A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 卜荣丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线成像装置,包括:

分离元件,空间地分离由X射线产生器产生的X射线;

第一衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第一衰减元件上;

第二衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第二衰减元件上,该第二衰减元件被设置为与第一衰减元件相邻;和

检测单元,被配置为检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度,

其中,第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变,并且,

其中,第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。

2.根据权利要求1的X射线成像装置,还包括:

计算单元,被配置为通过使用从由检测单元检测的X射线的强度计算的X射线透过率,计算被检体的微分相位图像或相位图像。

3.根据权利要求2的X射线成像装置,

其中,计算单元从由检测单元检测的X射线的强度计算被检体的透过率图像。

4.根据权利要求1~3中的任一项的X射线成像装置,

其中,第二衰减元件的厚度在与入射在第二衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上恒定。

5.根据权利要求1~4中的任一项的X射线成像装置,

其中,第二衰减元件的密度在与入射在第二衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上恒定。

6.根据权利要求1~5中的任一项的X射线成像装置,

其中,第二衰减元件是上面设置有第一衰减元件的基板。

7.根据权利要求1~5中的任一项的X射线成像装置,

其中,第二衰减元件是在上面设置有第一衰减元件的基板中形成的开口。

8.根据权利要求1~7中的任一项的X射线成像装置,

其中,第一衰减元件的厚度在与入射在第一衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上连续改变。

9.根据权利要求1~7中的任一项的X射线成像装置,

其中,第一衰减元件的密度在与入射在第一衰减元件上的X射线的方向垂直的方向上连续改变。

10.根据权利要求8的X射线成像装置,

其中,第一衰减元件是具有三角棱柱形状的结构。

11.一种在X射线成像装置中使用的X射线成像方法,该方法包括:

产生X射线;

空间地分离X射线;

使空间地分离的X射线入射在第一衰减元件和第二衰减元件上,该第二衰减元件被设置为与该第一衰减元件相邻;

检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度;和

通过使用被检体的X射线透过率计算被检体的微分相位图像或相位图像,该X射线透过率是从检测到的X射线的强度计算的,

其中,第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变,并且,

其中,第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。

12.一种X射线成像装置,包括:

第一元件,被配置为获得第一强度数据;

第二元件,被配置为获得第二强度数据,该第二元件被设置为与第一元件相邻;和

计算单元,被配置为基于从第二强度数据获得的被检体的X射线透过率,从第一强度数据计算由于被检体导致的X射线的相位偏移量。

13.一种X射线成像方法,包括:

通过使用第一元件获得第一强度数据;

通过使用第二元件获得第二强度数据;和

基于从第二强度数据获得的被检体的X射线透过率,从第一强度数据计算由于被检体导致的X射线的相位偏移量。

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