[发明专利]电波透过性装饰件及其制造方法

权利要求书

1.一种电波透过性装饰件，包括：

基体；

透明有机材料层；以及

设置在所述基体和所述透明有机材料层之间且由硅或锗与金属的合金形成的光反射层。

2.根据权利要求1所述的电波透过性装饰件，其中，

所述光反射层是通过物理蒸镀硅或锗与金属的合金而形成的蒸镀膜。

3.根据权利要求1或2所述的电波透过性装饰件，其中，

所述透明有机材料层是透明有机材料的成形体。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的电波透过性装饰件，其中，

所述基体为有机材料的成形体。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电波透过性装饰件，其中，

所述电波透过性装饰件还包括设置在所述透明有机材料层与所述光反射层之间且折射率低于所述透明有机材料层的折射率的低折射率层。

6.根据权利要求5所述的电波透过性装饰件，其中，

所述低折射率层为由气体或真空形成的缝隙。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的电波透过性装饰件，其中，

所述电波透过性装饰件还包括设置在所述透明有机材料层与所述光反射层之间的着色层。

8.根据权利要求7所述的电波透过性装饰件，其中，

所述着色层是形成为图案状的层。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的电波透过性装饰件，其中，

所述电波透过性装饰件还包括与所述光反射层接触的粘着促进层。

10.根据权利要求9所述的电波透过性装饰件，其中，

所述粘着促进层含有金属氧化物。

11.根据权利要求10所述的电波透过性装饰件，其中，

所述粘着促进层通过使具有金属烷氧基的树脂进行脱醇缩合而形成。

12.一种电波透过性装饰件的制造方法，所述电波透过性装饰件包括基体、透明有机材料层以及设置在所述基体与所述透明有机材料层之间且由硅或锗与金属的合金形成的光反射层，在所述电波透过性装饰件的制造方法中，

通过使用由硅或锗与金属的合金形成的靶的直流磁控溅射法形成所述光反射层。

13.根据权利要求12所述的电波透过性装饰件的制造方法，其中，

所述靶还包含掺杂剂。

14.根据权利要求12或13所述的电波透过性装饰件的制造方法，其中，

所述靶是通过对平均粒子径为100μm以下的合金粉末进行成型而得。