[发明专利]电子装置的操作部分的按键结构、使用该按键结构的输入装置和电子装置有效

专利信息
申请号: 201080005756.5 申请日: 2010-01-14
公开(公告)号: CN102301441A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 竹井礼;辻本雅一 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: H01H13/14 分类号: H01H13/14;H04M1/23
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 柳春雷
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 装置 操作 部分 按键 结构 使用 输入
【权利要求书】:

1.一种电子装置的操作部分的按键结构,所述按键结构具有以彼此相邻的方式平行布置的多个操作按键,所述按键结构包括:

具有台阶高度的操作部分,所述操作部分形成在所述操作按键中,所述操作按键通过被操作者的手指按下来执行输入操作,

其中,所述操作按键的所述操作部分包括高台阶表面和低台阶表面,所述高台阶表面在按下方向上位于高水平面部分,所述低台阶表面至少形成于所述操作按键彼此相邻的相邻一侧并且在所述按下方向上位于比所述高台阶表面低的水平面部分;并且

其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面当中的每一个都形成为大致平坦的,并且所述低台阶表面的宽度被设置成不小于所述按下操作的错误宽度的一半,作为关于所述高台阶表面在相邻方向上的宽度。

2.根据权利要求1所述的电子装置的操作部分的按键结构,其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面之间的台阶高度被设置成不小于所述输入操作所需的按下高度。

3.根据权利要求1或2所述的电子装置的操作部分的按键结构,其中,在所述高台阶表面的一个端侧上的所述低台阶表面的面积被设置成不小于所述高台阶表面的面积的五分之一。

4.根据权利要求3所述的电子装置的操作部分的按键结构,其中,围绕所述高台阶表面的所述低台阶表面的总面积被设置成不大于所述高台阶表面的面积。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的电子装置的操作部分的按键结构,其中,在大致与所述高台阶表面和所述低台阶表面垂直的台阶高度部分处,所述高台阶表面和所述低台阶表面沿着平面方向彼此邻接。

6.一种输入装置,所述输入装置具有以彼此相邻的方式平行布置的多个操作按键,所述输入装置包括:

具有台阶高度的操作部分,所述操作部分形成在所述操作按键中,所述操作按键通过被操作者的手指按下来执行输入操作,

其中,所述操作按键的所述操作部分包括高台阶表面和低台阶表面,所述高台阶表面在按下方向上位于高水平面部分,所述低台阶表面至少形成于所述操作按键彼此相邻的相邻一侧并且在所述按下方向上位于比所述高台阶表面低的水平面部分;并且

其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面当中的每一个都形成为大致平坦的,并且所述低台阶表面的宽度被设置成不小于所述按下操作的错误宽度的一半,作为关于所述高台阶表面在相邻方向上的宽度。

7.根据权利要求6所述的输入装置,其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面之间的所述台阶高度被设置成不小于所述输入操作所需的按下高度。

8.根据权利要求6或7所述的输入装置,其中,每个所述操作按键的所述低台阶表面形成为相对于边界线大致对称。

9.一种电子装置,所述电子装置具有以彼此相邻的方式平行布置的多个操作按键,所述电子装置包括:

具有台阶高度的操作部分,所述操作部分形成在所述操作按键中,所述操作按键通过被操作者的手指按下来执行输入操作,

其中,所述操作按键的所述操作部分包括高台阶表面和低台阶表面,所述高台阶表面在按下方向上位于高水平面部分,所述低台阶表面至少形成于所述操作按键彼此相邻的相邻一侧并且在所述按下方向上位于比所述高台阶表面低的水平面部分;并且

其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面当中的每一个都形成为大致平坦的,并且所述低台阶表面的宽度被设置成不小于所述按下操作的错误宽度的一半,作为关于所述高台阶表面在相邻方向上的宽度。

10.根据权利要求9所述的电子装置,其中,所述高台阶表面和所述低台阶表面之间的所述台阶高度被设置成不小于所述输入操作所需的按下高度。

11.根据权利要求9或10所述的电子装置,其中,每个所述操作按键的所述低台阶表面形成为相对于边界线大致对称。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电气株式会社,未经日本电气株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080005756.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top