[发明专利]用于超声成像的声学设备无效
申请号: | 201080005832.2 | 申请日: | 2010-01-25 |
公开(公告)号: | CN102301418A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | S·德拉迪;J·F·苏伊吉维尔;D·马雷斯卡 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G10K11/30 | 分类号: | G10K11/30 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;韩宏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 超声 成像 声学 设备 | ||
1.一种声学设备,用于对对象(21)进行超声成像,所述设备包括:
-能够接收和/或发射声脉冲(5)的声学换能器(10);以及
-声学透镜(20),设置为可变地折射所述声脉冲至所述声学换能器和/或折射来自所述声学换能器的所述声脉冲,所述声学透镜包括由声学界面(7)分隔开的第一流体(L1)和第二流体(L2),所述声学界面的法线与所述声脉冲形成相对入射角(AI),
其中,选择所述声学透镜(20)的所述第一流体和第二流体,以使得所述声学界面(7)具有作为在非零的角度处的所述相对入射角(AI)的函数的反射最小值。
2.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述声学透镜(20)是包括第一流体和第二流体(L1,L2)的电润湿流体透镜。
3.根据权利要求1所述的声学设备,其中在所述声脉冲的中心频率下,所述第一流体的密度ρ1、所述第二流体的密度ρ2、所述第一流体的声速v1以及所述第二流体的声速v2满足条件:
4.根据权利要求1所述的声学设备,其中在所述声脉冲的中心频率下,所述第二流体(L2)的密度大致为所述第一流体(L1)的密度的两倍,并且所述第二流体的声速大致为所述第一流体的声速的一半。
5.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述第一流体(L1)为水并且所述第二流体为全氟全氢菲(C14F24)。
6.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述反射最小值处的反射(R)基本为零。
7.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述声学界面(7)处的反射(R)相对于所述相对入射角(AI)的一阶导数在紧高于零相对入射角时为负。
8.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述声学界面(7)处的反射(R)相对于所述相对入射角(AI)的一阶导数在所述反射最小值处改变符号。
9.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述反射最小值处的所述相对入射角(AI)位于所述声学设备中可能的最大相对入射角的值的大致一半处。
10.根据权利要求1所述的声学设备,其中所述反射最小值处的所述相对入射角(AI)在从2-40度的间隔中,优选为10-30度的间隔中,或者最优选为15-25度的间隔中。
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