[发明专利]功率稳定的激光二极管阵列

权利要求书

1.一种光学功率稳定的激光二极管阵列，包括：

多个激光二极管；

图像数据流，所述图像数据流为所述激光二极管的每一个提供图像数据；

数据流分析器，用于对每个激光二极管的所述图像数据流进行分析以确定每个激光二极管的工作周期，并且用于基于所述工作周期对每个激光二极管的预计温度改变进行计算；以及

光学功率稳定器，用于根据所述预计温度改变而对应用至每个激光二极管的电流进行控制。

2.一种用于对发射激光二极管的光学功率稳定性进行控制的系统，所述激光二极管在激光二极管结点处显现出温度改变，其中所述温度改变是根据激光二极管工作周期进行预测的，所述系统包括：

激光二极管，布置为在目标上发射光；

数据流分析器，配置为接收引入图像数据流，其中所述引入图像数据流被分析从而在所述数据流中产生大于零值的图像数据发生因子；以及

光学功率稳定器，配置为根据所述图像数据发生因子而对应用在激光二极管上的电流强度进行控制。

3.一种用于对发射激光二极管的阵列的光学功率输出进行控制的系统，其中所述激光二极管的温度改变影响所述激光二极管的输出功率，所述系统包括：

数据流，应用于每个激光二极管；

数据流分析器，配置为产生每个激光二极管的图像数据发生因子；以及

光学功率稳定器，配置为根据所述图像数据发生因子而对应用于每个激光二极管的电流进行控制。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述目标是计算机直接制版(CTP)板系统。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像数据流代表用于在目标上成像的图像。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像数据流代表半色调数据。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述温度改变是根据用于激活每个所述激光二极管的所述图像数据流对所述激光二极管的每一个进行预测的，所述图像数据流用于至少一个相邻激光二极管。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述激光二极管是垂直腔表面发射激光器(VCSEL)。

9.根据权利要求2所述的系统，其中在成像过程之前，所述数据流分析器对代表待成像的图像数据的多个所述图像数据发生因子进行计算。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述数据流分析器在成像过程中对所述引入数据流上的所述图像数据发生因子进行计算。

11.根据权利要求2所述的系统，其中所述数据流分析器在成像过程中对所述引入数据流上的所述图像数据发生因子进行计算。

12.一种用于对激光二极管的功率输出进行控制的方法，其中所述激光二极管显现出与激光二极管结点处的温度改变相关的功率改变，其中所述温度改变是根据激光二极管工作周期进行预测的，所述方法包括：

分析引入图像数据流，其中所述引入图像数据流被分析从而对于每个时间单位在所述数据流中产生大于零值的图像数据发生因子；以及

对光学功率稳定器装置进行调节，从而根据所述图像数据发生因子对应用于每个激光二极管的电流进行控制。

13.一种计算机直接制版(CTP)成像设备，包括用于对发射激光二极管的功率进行控制的系统，所述激光二极管显现出与激光二极管结点处的温度改变相关的功率改变，其中所述温度改变是根据激光二极管工作周期进行预测的，所述系统包括：

激光二极管，布置为在目标上发射光；

数据流分析器，配置为接收引入数据流，其中所述引入数据流被分析从而对于每个时间单位在所述数据流中产生大于零值的图像数据发生因子；以及

光学功率稳定器，配置为根据所述图像数据发生因子而对应用在激光二极管上的电流进行控制。