[发明专利]具有内适形层的光学膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于制备膜的共挤出方法，其包括：

向挤出模头提供背面层材料、芯层材料和复制层材料；和

在压料辊和结构化辊之间共挤出所述背面层材料、所述芯层材料和所述复制层材料，以产生具有背面层、芯层和复制层的膜，其中所述结构化辊具有被复制到所述复制层上的表面结构，并且其中所述芯层为与所述复制层适形的内适形层。

2.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述表面结构包括凹槽。

3.根据权利要求2所述的共挤出方法，其中所述凹槽在所述结构化辊上在幅材纵向位置和幅材横向位置中排列。

4.根据权利要求3所述的共挤出方法，其中在幅材横向上的所述凹槽相对于所述结构化辊的轴线具有偏移。

5.根据权利要求4所述的共挤出方法，其中所述偏移为约10°。

6.根据权利要求4所述的共挤出方法，其中所述偏移为约15°。

7.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述背面层、所述芯层和所述复制层中的至少一个层包含以下的添加剂中的至少一种或多种：UV吸收剂；UV稳定剂；静电耗散添加剂；或者光学增强剂。

8.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层材料包含聚碳酸酯。

9.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层包括不止一个层。

10.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层材料、所述背面层材料和所述复制层材料是透明的。

11.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述背面层为哑光扩散体。

12.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述复制层为可剥离表层。

13.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中除所述复制层以外的层具有几何形状不同于所述复制层的结构。

14.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述复制层具有外峰并且所述芯层具有比所述外峰更尖锐的内峰。

15.一种膜，其包含：

具有第一表面的第一层；和

具有第二表面的第二层以及在所述第一层和所述第二层之间的第一界面，

其中所述第一界面适形于所述第一表面和所述第二表面，所述第一表面包含光学微结构，并且所述第一表面和所述第二表面具有复制的图案。

16.根据权利要求15所述的膜，还包含与所述第二表面相对的邻近所述第二层的第三层。

17.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包括哑光表面。

18.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包含光学微结构。

19.根据权利要求16所述的膜，其中所述第一层、所述第二层或所述第三层中的至少一个层包含以下的添加剂中的至少一种：UV吸收剂；UV稳定剂；静电耗散添加剂；或者光学增强剂。

20.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一层为可剥离表层。

21.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面和第二表面中的至少一个表面包含涂层。

22.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的凹槽。

23.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的交叉凹槽。

24.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含微型透镜。

25.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包含由喷丸产生的哑光微结构。

26.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的交叉凹槽，其中所述凹槽之间间隔114微米。

27.根据权利要求15所述的膜，其中所述膜的至少一个外表面具有与其附接的保护性前掩模。