[发明专利]光学信息再生装置、光学信息再生方法以及集成电路有效

专利信息
申请号: 201080006587.7 申请日: 2010-01-29
公开(公告)号: CN102308334A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 鸣海建治;尾留川正博 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B7/004;G11B7/005
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 信息 再生 装置 方法 以及 集成电路
【权利要求书】:

1.一种光学信息再生装置,从光学信息记录介质再生信息,其特征在于包括:

聚光部,生成近场光;

测定部,利用由所述聚光部生成的近场光,测定所述光学信息记录介质的再生信号质量;

间隙长决定部,基于所述测定部的再生信号质量的测定结果,将所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面之间的间隙长作为设定值而决定;以及

间隙控制部,基于由所述间隙长决定部决定的设定值,控制所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面的间隙。

2.根据权利要求1所述的光学信息再生装置,其特征在于还包括:

检测部,光学检测所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面之间的间隙长并输出检测信号,其中,

所述间隙控制部,利用所述检测信号控制所述间隙。

3.根据权利要求1或2所述的光学信息再生装置,其特征在于:所述测定部以至少两种不同的间隙长测定所述再生信号质量。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学信息再生装置,其特征在于还包括:

再生停止部,在即使将所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面之间的间隙长缩短为指定的长度,由所述测定部测定的所述再生信号质量的测定值还不能满足指定的质量条件的情况下,停止所述光学信息记录介质的再生。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学信息再生装置,其特征在于:所述间隙长决定部将所述间隙长与所述再生信号质量的测定值的关系为指定关系时的间隙长作为所述设定值而决定。

6.根据权利要求5所述的光学信息再生装置,其特征在于:所述间隙长决定部将所述再生信号质量的测定值为指定值时的最大间隙长作为所述设定值而决定。

7.根据权利要求5所述的光学信息再生装置,其特征在于:所述间隙长决定部将表示所述间隙长与所述再生信号质量的测定值的关系的特性曲线的切线斜率为指定值时的间隙长作为所述设定值而决定。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学信息再生装置,其特征在于:

所述光学信息记录介质为可记录或可重写的介质,

所述光学信息再生装置还包括,以预先确定的记录功率及记录策略将测试信号记录到所述光学信息记录介质中的测试记录部,其中,

所述测定部,通过从所述光学信息记录介质再生所述测试信号来测定所述再生信号质量。

9.根据权利要求8所述的光学信息再生装置,其特征在于还包括:在所述间隙控制部控制了所述间隙后,将所述记录功率设定为目标值的记录功率设定部。

10.根据权利要求8所述的光学信息再生装置,其特征在于还包括:在所述间隙控制部控制了所述间隙后,将所述记录策略设定为目标值的记录策略设定部。

11.一种光学信息再生方法,用于从光学信息记录介质再生信息,其特征在于包括以下工序:

测试再生工序,利用由聚光部生成的近场光,测定所述光学信息记录介质的再生信号质量;

间隙长决定工序,基于在所述测试再生工序中的再生信号质量的测定结果,将所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面之间的间隙长作为设定值而决定;以及

间隙控制工序,基于在所述间隙长决定工序中决定的设定值,控制所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面的间隙。

12.一种集成电路,用于具备生成近场光的聚光部并从光学信息记录介质再生信息的光学信息再生装置中,其特征在于包括:

测定电路,利用由所述聚光部生成的近场光,测定所述光学信息记录介质的再生信号质量;

间隙长决定电路,基于所述测定电路的再生信号质量的测定结果,将所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面之间的间隙长作为设定值而决定;以及

间隙控制电路,基于由所述间隙长决定电路决定的设定值,控制所述聚光部与所述光学信息记录介质的表面的间隙。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080006587.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top