[发明专利]曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，是在同一基板上的第1区域及第2区域中形成互不相同的光阻图案的曝光方法，其特征在于：

将具有用于将上述第1区域内的光阻图案的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将上述第2区域内的光阻图案的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定，

一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第1掩膜图案，将上述第1区域上的光阻剂连续或间歇地曝光，

一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第2掩膜图案，将上述第2区域上的光阻剂连续或间歇地曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

构成上述第1图案的多个光透过部的间隔与构成上述第2图案的多个光透过部的间隔不相同。

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

当将上述第1区域上的光阻剂曝光时，用遮板对上述第2掩膜图案进行遮光，当将上述第1区域上的光阻剂曝光时，用上述遮板对上述第1掩膜图案进行遮光。

4.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

当将上述第2区域上的光阻剂曝光时，通过用一对镜子使来自上述光源的光转向，从而使光照射上述光掩膜的照射位置从上述第1掩膜图案的形成位置向上述第2掩膜图案的形成位置移动。

5.一种彩色滤光片的制造方法，是在同一基板上的第1区域及第2区域中形成互不相同的彩色滤光片的制造方法，其特征在于：

将具有用于将上述第1区域内的着色像素的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将第2区域内的着色像素的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定，

重复进行着色图案形成处理，以形成构成上述彩色滤光片的所有颜色的着色像素，该着色图案形成处理包含：将彩色光阻剂涂布在基板上的处理；一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第1掩膜图案，将上述第1区域上的彩色光阻剂连续或间歇地曝光的处理；以及一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第2掩膜图案，将上述第2区域上的彩色光阻剂连续或间歇地曝光的处理。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于：

形成在上述第1区域中的彩色滤光片的尺寸与形成在上述第2区域中的彩色滤光片的尺寸不相同，并且，构成上述第1掩膜图案的多个光透过部的间隔与构成上述第2掩膜图案的多个光透过部的间隔不同。

7.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于：

当将上述第1区域上的彩色光阻剂曝光时，用遮板对上述第2掩膜图案进行遮光，

当将上述第1区域上的彩色光阻剂曝光时，用上述遮板对上述第1掩膜图案进行遮光。

8.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于：

当将上述第2区域上的彩色光阻剂曝光时，通过用一对镜子使来自上述光源的光转向，从而使光照射上述光掩膜的照射位置从上述第1掩膜图案的形成位置向上述第2掩膜图案的形成位置移动。

9.一种彩色滤光片基板，其特征在于：

该彩色滤光片基板是使用权利要求5至8中任一项所述的彩色滤光片基板的曝光方式制作的彩色滤光片基板。

10.一种曝光装置，是在同一基板上的第1区域及第2区域中形成互不相同的光阻图案的曝光装置，其特征在于，

该曝光装置具备：

光源；

光掩膜，相对于上述光源固定，并且具有用于将上述第1区域内的光阻图案的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将上述第2区域内的光阻图案的一部分曝光的第2掩膜图案；

基板搬运装置，搬运涂布有光阻剂的基板；以及

选择照射机构，选择性地对上述光掩膜上的任意一个掩膜图案照射来自上述光源的光。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述照射选择机构是遮板，当将上述第1区域上的光阻剂曝光时，该遮板对上述第2掩膜图案进行遮光，当将上述第1区域上的光阻剂曝光时，该遮板对上述第1掩膜图案进行遮光。

12.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于：

上述照射选择机构是一对镜子，当将上述第2区域上的光阻剂曝光时，该一对镜子使来自上述光源的光转向，从而使光照射上述光掩膜的照射位置从上述第1掩膜图案的形成位置向上述第2掩膜图案的形成位置移动。