[发明专利]液晶显示装置及其制造方法无效
申请号: | 201080007010.8 | 申请日: | 2010-02-15 |
公开(公告)号: | CN102308252A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 浅冈康;箕浦洁;佐藤英次;出口和广;藤原小百合;宫本健治 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1334;G02F1/1335;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示装置,其特征在于:
在一对形成有电极的基板间,夹持有使液晶滴分散在高分子膜中的结构或在液晶层中形成有高分子网络的结构的液晶,
在至少一个基板与电极之间,具有波长365nm时的透射率(T(365nm))与波长315nm时的透射率(T(315nm))的比(T(365nm)/T(315nm))为6.3以上的紫外线吸收层。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于:
所述液晶显示装置进行单色显示。
3.如权利要求1或2所述的液晶显示装置,其特征在于:
所述紫外线吸收层的膜厚在1.0μm至3.0μm的范围内。
4.一种反射型液晶显示装置,其特征在于:
依次形成有由多个有源元件构成的存储器、层间绝缘膜和反射电极的第一绝缘性基板,与形成有透明电极的第二绝缘性基板,以反射电极与透明电极相对的方式贴合,并夹持有使液晶滴分散在高分子膜中的结构或在液晶层中形成有高分子网络的结构的液晶,
在第二基板与透明电极间具有紫外线吸收层,
所述紫外线吸收层的波长365nm时的透射率(T(365nm))与波长315nm时的透射率(T(315nm))的比(T(365nm)/T(315nm))为6.3以上。
5.如权利要求4所述的反射型液晶显示装置,其特征在于:
所述反射型液晶显示装置进行单色显示。
6.如权利要求4或5所述的反射型液晶显示装置,其特征在于:
所述紫外线吸收层的膜厚在1.0μm至3.0μm的范围内。
7.一种反射型液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
准备依次形成有由多个有源元件构成的存储器、层间绝缘膜和反射电极的第一绝缘性基板;
准备依次形成有波长365nm时的透射率(T(365nm))与波长315nm时的透射率(T(315nm))的比(T(365nm)/T(315nm))为6.3以上的紫外线吸收层、和透明电极的第二绝缘性基板;
以反射电极与透明电极相对的方式将第一基板与第二基板贴合;
在第一基板与第二基板之间注入液晶、单体和光聚合引发剂;和
从第二基板侧照射紫外线,使单体聚合而高分子化,其中,
所述紫外线的波长365nm时的液晶面板面的照度为30mW/cm2以上。
8.如权利要求7所述的反射型液晶显示装置的制造方法,其特征在于:
紫外线的波长365nm时的强度(I(365nm))与波长340nm时的强度(I(340nm))的比(I(365nm)/I(340nm))为41以上。
9.如权利要求7或8所述的反射型液晶显示装置的制造方法,其特征在于:
利用紫外线的照射也同时进行密封材料的硬化,之后进行热处理。
10.如权利要求9所述的反射型液晶显示装置的制造方法,其特征在于:
所述热处理的温度为120度至180度。
11.如权利要求9所述的反射型液晶显示装置的制造方法,其特征在于:
所述热处理的时间为10分钟至120分钟。
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