[发明专利]用于流体分析的系统

权利要求书

1.一种用于流体分析的系统，包括：用于发射光束的光源，

用于引导至少一部分光束的光路，

用于沿所述光路引导流体的流体通道，以及

用于检测沿所述光路传播的光的光学特性的检测器，

其中所述光路包括多模干涉结构，所述多模干涉结构被布置成在至少两种传播模式下提供光束的传播，所述检测器经定位从所述至少两种传播模式的每一种模式接收光。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述流体通道包括至少两个感测窗，以允许所述光与所述流体相互作用，其中一个感测窗充当基准区域，另一个充当测量区域。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述感测窗沿多模干涉结构中的光传播方向平行地延伸。

4.如权利要求2或3所述的系统，其特征在于，沿将要充当测量区域的所述感测窗提供抗体或其它受体。

5.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述多模干涉结构被布置成允许所述至少两种传播模式按横向最小和最大的图案来传播，第一多模干涉结构的传播长度被设计为在其端部提供横向最大值。

6.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述检测器被设置在所述多模干涉的一端，以便将来自所述至少两种传播模式的光按空间分布的方式提供到所述检测器上。

7.如权利要求1-5中任何一项所述的系统，其特征在于，还包括位于所述多模干涉结构下游的又一多模干涉结构，所述又一多模干涉结构具有超出所述多模干涉结构宽度的宽度，以在所述又一多模干涉结构中提供多个传播模式，所述多个传播模式之间的干涉图案将由所述检测器检测出。

8.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述光源包括单模光束源。

9.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述多模干涉结构被设置在芯片中。

10.如权利要求9所述的系统，其特征在于，所述芯片还包括所述检测器。

11.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述检测器的处理单元被布置成对所述检测器检测出的图案执行差动测量。

12.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，设置又一检测器，所述又一检测器具有沿所述流体通道延伸的检测区域，用于检测沿所述光路的光散射。

13.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，还包括光束操控器，用于操控光束的光路位置，和控制设备，用于控制所述光束操控器，所述控制设备被布置成用于对不同位置的光束光路测量由所述检测器检测到的光学图案，并控制所述操控器，以获得所述检测器检测到的、所需的光学图案。

14.如前面任意一项权利要求所述的系统，其特征在于，提供所述多模干涉结构的均匀的核芯层。

15.如权利要求14所述的系统，其特征在于，所述均匀的核芯层包含Si₃N₄。