[发明专利]用于高数值孔径光刻系统的偏振监视调制盘设计

权利要求书

1.一种用于光刻扫描装置的偏振监视调制盘(10)，包括：

透明平面基板，其具有正面(14)和背面(12)，在所述背面(12)和正面(14)上都具有不透明层；以及

在所述基板上的针孔(16)-簇(20)组合的X-Y行和列阵列；

其中每个簇(20)包括位于所述基板的所述正面(14)上的所述不透明层中的多个偏振计组(18)的X-Y阵列，其中每个簇(20)邻近在所述基板的所述背面(12)上的所述不透明层中的对应的针孔(16)；

每组偏振计(18)包括在每组内的多个偏振图监视器的X-Y阵列，每个偏振计组内的每个监视器与所述偏振计组的中心相距限定的距离，并且每组偏振计具有记号，所述记号标识簇行、簇列、所述偏振计组的中心相对于簇中心的X位置以及所述偏振计组的中心相对于簇中心的Y位置；并且

当来自光源的照射穿过所述调制盘(10)时，所述监视器依赖于照射的偏振而在图像平面处产生可测量的输出信号。

2.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述偏振计组(18)中的一个或多个包括X或Y偏振监视器(24或22)，当来自光源的照射穿过所述调制盘(10)时，所述X或Y偏振监视器(24或22)依赖于照射的X或Y偏振而在图像平面处产生可测量的输出信号。

3.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述调制盘(10)在所述偏振计组(18)中的一个或多个中包括一个或多个SEM对准标记(38)。

4.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述调制盘(10)在所述偏振计组(18)中的一个或多个中包括低剂量对准标记(40)，所述低剂量对准标记(40)包括在所述照射的低曝光剂量下可被SEM识别的图形。

5.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述调制盘(10)在所述偏振计组(18)中的一个或多个中包括低剂量对准标记(40)，所述低剂量对准标记(40)包括用于所述照射的轴上和离轴光线的在所述照射的低曝光剂量下可被SEM识别的图形。

6.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述调制盘(10)在所述偏振计组(18)中的一个或多个中包括透光区(42)以测量穿过其的所述照射的总强度。

7.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述偏振计组(18)中的所述监视器具有不同的半径以向穿过其的所述照射的偏振提供不同程度的灵敏度。

8.根据权利要求1的调制盘(10)，其中所述背面层(12)上的所述针孔(16)的尺寸依赖于对应的簇(20)被设计监视的数值孔径而变化。

9.一种在光刻扫描期间监视偏振的方法，包括：

提供具有光源和至少0.85的数值孔径的光刻扫描系统；

提供调制盘(10)，所述调制盘(10)包括透明平面基板和在所述基板上的针孔(16)-簇(20)组合的X-Y行和列阵列，所述透明平面基板具有正面(14)和背面(12)，在所述正面(14)和所述背面(12)上都具有不透明层，每个簇(20)包括位于所述基板的所述正面(14)上的所述不透明层中的多个偏振计组(18)的X-Y阵列，其中每个簇(20)邻近在所述基板的所述背面(12)上的所述不透明层中的对应的针孔(16)，每组偏振计(18)包括在每组内的多个偏振图监视器的X-Y阵列，每个偏振计组(18)内的每个监视器与所述偏振计组(18)的中心相距限定的距离，并且每组偏振计(18)具有记号，所述记号标识簇行、簇列、所述偏振计组的中心相对于簇中心的X位置以及所述偏振计组的中心相对于簇中心的Y位置；

使来自所述光源的照射穿过所述调制盘(10)并曝光光致抗蚀剂层，从而所述监视器依赖于照射的偏振产生可测量的输出信号；以及

测量所述光致抗蚀剂层中的所产生的图像，以确定穿过所述调制盘的所述照射的偏振度。

10.根据权利要求9的方法，其中所述偏振计组(18)包括X或Y偏振监视器(24或22)并在所述光致抗蚀剂层处测量穿过所述调制盘的所述照射的X或Y偏振度。

11.根据权利要求9的方法，其中所述偏振计组(18)中的一个或多个包括X或Y偏振监视器(24或22)，当来自光源的照射穿过所述调制盘(10)时，所述X或Y偏振监视器(24或22)依赖于照射的X或Y偏振而在图像平面处产生可测量的输出信号。