[发明专利]用于光子器件的透明基材无效

专利信息
申请号: 201080008687.3 申请日: 2010-02-19
公开(公告)号: CN102326274A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: B·多莫克;P·罗奎尼;D·德克鲁普特 申请(专利权)人: 旭硝子欧洲玻璃公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/10;C03C17/36
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杨勇
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 光子 器件 透明 基材
【权利要求书】:

1.用于光子器件的透明基材(1),该基材包含载体(10)和电极(11),所述电极(11)包含叠层结构,该叠层结构包含单一的金属导电层(112)和至少一个涂层(110),所述涂层具有改善通过所述电极的光透射的性能,所述涂层(110)具有至少大于3nm并且至多小于或等于200nm的几何厚度,所述涂层(110)包含至少一个改善光透射的层(1101)并位于金属导电层(112)和载体(10)之间,所述电极(11)沉积于所述载体上,其特征在于具有改善光透射的性能的涂层(110)的光学厚度TD1和金属导电层(112)的几何厚度TME由以下关系关联:

TME=TME_0+B*sin(∏*TD1/TD1_0)/n3载体

其中TME_0、B和TD1_0为常数,TME_0具有在10.0至25.0nm范围内的值,B具有在10.0至16.5范围内的值,并且TD1_0具有在23.9*nD1nm至28.3*nD1nm范围内的值,nD1表示改善光透射的涂层在550nm的波长下的折射率,n载体表示载体在550nm的波长下的折射率。

2.根据权利要求1的透明基材,其特征在于载体(10)的折射率n载体具有在550nm的波长下至少等于1.2的值。

3.根据以上权利要求任意之一的透明基材,其特征在于改善光透射的涂层(110)的折射率大于载体(10)的折射率。

4.根据以上权利要求任意之一的透明基材,其特征在于载体(10)具有在550nm的波长下在1.4和1.6之间的折射率。

5.根据权利要求4的透明基材,其特征在于金属导电层(112)的几何厚度至少等于16.0nm并且至多等于29.0nm,并且其中改善光透射的涂层(110)的几何厚度至少等于20.0nm并且至多等于40.0nm。

6.根据权利要求1至4任意之一的透明基材,其特征在于载体具有在550nm的波长下等于1.5的折射率,并且金属导电层(112)的几何厚度至少等于6.0nm并且至多等于22.0nm,并且其中改善光透射的涂层(110)的几何厚度至少等于50.0nm并且至多等于130.0nm。

7.根据以上权利要求任意之一的透明基材,其特征在于该电极包含改善光透射的涂层(110),该涂层包含至少一个额外的结晶层(1102),相对于载体(10),所述结晶层(1102)是构成所述涂层(110)的叠层结构中最远的层。

8.根据权利要求7的透明基材,其特征在于结晶层(1102)的几何厚度至少等于改善光透射的涂层(110)的总几何厚度的7%。

9.根据以上权利要求任意之一的透明基材,其特征在于电极(11)包含表面电学性能均一化薄层(114),所述薄层相对于载体(10)位于构成所述电极(11)的多层叠层结构的顶部。

10.根据以上权利要求任意之一的透明基材,其特征在于电极(11)包含位于金属导电层(112)和均一化薄层(114)之间的至少一个额外的插入层(113)。

11.根据权利要求10的透明基材,其特征在于插入层(113)的几何厚度(Ein)使得一方面其欧姆厚度至多等于1012欧姆,其中欧姆厚度等于一方面构成插入层的材料的电阻率(ρ)与另一方面该同一层的几何厚度(1)之比;另一方面,插入层的几何厚度与有机电致发光器件的第一有机层的几何厚度(Eorg)通过关系Eorg=Ein-A相关,术语第一有机层指的是位于插入层和有机电致发光层之间的所有有机层,其中A是具有在5.0至75.0nm、优选20.0至60.0nm、更优选30.0至45.0nm的范围内的值的常数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子欧洲玻璃公司,未经旭硝子欧洲玻璃公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080008687.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top