[发明专利]基板的处理装置以及处理方法

权利要求书

1.一种基板的处理装置，通过处理液处理基板，其特征在于，具备：

处理部，被供给要通过上述处理液处理的上述基板；

储液箱，存储有上述处理液；

循环管路，将该储液箱的处理液供给到上述处理部并处理上述基板之后，返回上述储液箱；以及

除气机构，设于该循环管路，将上述处理液中包含的气体除去。

2.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，

在上述循环管路中设有气泡发生机构，该气泡发生机构将不与上述处理液反应的气体形成微小气泡，混合到被上述除气机构除气后的处理液中。

3.如权利要求2所述的基板的处理装置，其特征在于，

上述处理液是剥离液，上述除气机构将上述处理液中包含的氧除去，上述气泡发生机构将不与上述处理液反应的气体形成为微小气泡而混合到上述处理液中。

4.如权利要求2所述的基板的处理装置，其特征在于，

上述处理液是显影液，上述除气机构将上述处理液中包含的二氧化碳除去，上述气泡发生机构将不与上述处理液反应的气体形成为微小气泡而混合到上述处理液中。

5.如权利要求2所述的基板的处理装置，其特征在于，

上述循环管路具有：

在上述储液箱、上述除气机构以及上述气泡发生机构之间循环除去了气体且混合了微小气泡的处理液的部分；以及

将上述储液箱中存储的处理液供给到上述供给部的部分。

6.一种基板的处理方法，通过处理液处理基板，其特征在于，具备：

将基板供给到处理部的工序；

将储液箱中存储的处理液供给到上述处理部之后回收到上述储液箱的工序；以及

将从上述储液箱供给到上述处理部的上述处理液中包含的气体除去的工序。

7.如权利要求6所述的基板的处理方法，其特征在于，具有：

在除去处理液中包含的气体之后且将上述处理液供给到上述处理部之前，将不与上述处理液反应的气体形成为微小气泡而混合到上述处理液中的工序。

8.一种基板的处理装置，通过处理液处理基板，其特征在于，具备：

处理部，被供给要通过上述处理液处理的上述基板；

储液箱，存储有上述处理液；

第一循环管路，将该储液箱的处理液供给到上述处理部并处理上述基板之后，返回上述储液箱；以及

第二循环管路，具有将不与处理液反应的气体形成为微小气泡而混入到处理液中的气泡发生机构，通过将上述储液箱的处理液供给到上述气泡发生机构之后返回到上述储液箱，由该处理液中包含的微小气泡除去从上述处理部返回到上述储液箱的处理液中包含的气体。

9.一种基板的处理方法，通过处理液处理基板，其特征在于，具备：

将基板供给到处理部的工序；

将储液箱中存储的处理液供给到上述处理部之后回收到上述储液箱的工序；

将不与该处理液反应的气体形成为微小气泡而混入到上述储液箱的处理液中的工序；以及

通过将混入了微小气泡的处理液返回到上述储液箱，由该处理液中包含的微小气泡除去从上述处理部回收到上述储液箱的处理液中包含的气体的工序。