[发明专利]用于使激光辐射均匀化的设备无效

专利信息
申请号: 201080008928.4 申请日: 2010-02-23
公开(公告)号: CN102334060A 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: D·巴托谢韦斯基;M·亚尔奇斯基 申请(专利权)人: LIMO专利管理有限及两合公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 赵科
地址: 德国盖*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 激光 辐射 均匀 设备
【权利要求书】:

1.一种用于使激光辐射均匀化的设备,所述激光辐射具有至少在与所述激光辐射的传播方向(Z)垂直的第一方向(X)上相互间隔开的子射束(2),所述设备尤其用于使源自激光二极管阵列的激光辐射均匀化,所述设备包括:

折射面(6,6a)的阵列(5),所述折射面至少能不同地偏转要均匀化的所述激光辐射的多个子射束(2),使得这些子射束在穿过所述折射面(6,6a)之后与穿过所述折射面(6,6a)之前相比至少部分地相互更会聚地行进,以及

透镜装置(7),穿过所述折射面(6,6a)的阵列(5)的子射束(2)能通过所述透镜装置,所述透镜装置(7)能在工作面(8)上叠加所述子射束(2)中至少一些子射束。

2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,为所述子射束(2)中每一个分别分配所述阵列(5)的折射面(6,6a)中的一个。

3.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述阵列(5)的折射面(6,6a)相互倾斜。

4.如权利要求1至3之一所述的设备,其特征在于,所述阵列(5)的折射面(6,6a)至少部分是平坦的,所述阵列(5)尤其构造为棱镜阵列。

5.如权利要求1至4之一所述的设备,其特征在于,所述阵列(5)的折射面(6,6a)至少部分地在所述第一方向(X)上相互连接。

6.如权利要求1至5之一所述的设备,其特征在于,所述阵列(5)的折射面(6,6a)至少部分地相互成150°到180°之间的一角度(α),尤其是165°到180°之间的一角度(α),优选是175°到179°之间的一角度(α)。

7.如权利要求1至6之一所述的设备,其特征在于,所述阵列(5)的折射面(6,6a)设置在圆柱形轮廓上。

8.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述圆柱形轮廓的圆柱轴在与所述第一方向(X)垂直且与要均匀化的所述激光辐射的传播方向(Z)垂直的第二方向(Y)上延伸。

9.如权利要求7或8所述的设备,其特征在于,所述圆柱形轮廓凸面地成型。

10.如权利要求1至9之一所述的设备,其特征在于,所述透镜装置(7)包括会聚透镜,或者由会聚透镜构成。

11.如权利要求1至10之一所述的设备,其特征在于,所述工作面(8)设置在所述透镜装置(7)的输出侧焦平面上。

12.如权利要求1至11之一所述的设备,其特征在于,所述设备具有准直装置(3,4),所述准直装置能使要均匀化的所述激光辐射相对于所述第一方向(X)和/或相对于所述第二方向(Y)至少部分地准直。

13.如权利要求12所述的设备,其特征在于,所述准直装置(3,4)在要均匀化的所述激光辐射的传播方向(Z)上设置在所述阵列(5)的折射面(6,6a)之前。

14.一种激光设备,包括:

能发射激光辐射的激光辐射源,尤其是激光二极管阵列(1),所述激光辐射具有在与所述激光辐射的传播方向(Z)垂直的方向(X)上相互间隔开的子射束(2),和

用于使所述激光辐射均匀化的设备,

其特征在于,

所述用于使所述激光辐射均匀化的设备是根据权利要求1至13之一所述的设备,

阵列的折射面之间的角度(α)被构造为使得相邻子射束(2)在所述阵列(5)的相邻折射面(6,6a)处所经受的偏转的角度差(ΔΦ)对应于所述子射束之一在穿过所述设备之前的远场分布(9)的整个半值宽度的75%到95%之间。

15.如权利要求14所述的设备,其特征在于,所述阵列的折射面之间的角度(α)和/或透镜装置(7)被构造为使得相邻子射束(2)的所述角度差(ΔΦ)大小相同。

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