[发明专利]透明耐候性阻隔膜、通过层合、挤出层合或挤出涂覆的制备

权利要求书

1.阻隔薄膜，其由气候老化稳定性保护层和包括阻隔层的基底层构成，其中所述保护层是气候老化稳定性的并且所述阻隔层由改进相对于水蒸气和氧气的阻隔作用的无机氧化物组成。

2.如权利要求1所述的阻隔薄膜，其特征在于所述阻隔薄膜是无卤素的。

3.如权利要求1所述的阻隔薄膜，其特征在于所述阻隔薄膜具有至少1000V的局部放电电压。

4.如权利要求1所述的阻隔薄膜，其特征在于所述阻隔薄膜在＞300nm范围内具有大于80％的透明度。

5.如权利要求1所述的阻隔薄膜，其特征在于在无机阻隔层与保护层之间存在由如下组成的粘附促进剂形成的粘合层：

a)1-80重量％单或多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯

b)0-30重量％预聚物

c)0-48重量％包含硅氧烷基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯

d)0.1-10重量％至少一种引发剂

e)0-10重量％至少一种调节剂

f)0-40重量％常规添加剂。

6.如权利要求1所述的阻隔薄膜，其特征在于在无机阻隔层与保护层之间存在由热熔粘合剂形成的粘合层。

7.制备阻隔薄膜的方法，其特征在于

a)借助于真空汽化或溅射而无机涂覆基底薄膜(聚烯烃、聚酯)，并且借助于层合将所述薄膜与耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烃形成的共挤出物)合并，或

b)借助于真空汽化或溅射而无机涂覆基底薄膜(聚烯烃、聚酯)，并且借助于挤出层合将所述薄膜与耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烃形成的共挤出物)合并，或

c)借助于真空汽化或溅射而无机涂覆基底薄膜(聚烯烃、聚酯)，并且借助于挤出涂覆将所述薄膜与耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烃形成的共挤出物)合并，和

d)在7a)-c)中所述的物理真空汽化中，借助于电子束汽化SiO，或

e)在7a)-c)中所述的物理真空汽化中，将SiO热汽化。

8.如权利要求1所述的阻隔薄膜用于包装工业、显示技术中和用于有机LED的用途。

9.如权利要求1所述的阻隔薄膜用于有机光生伏打系统中，用于薄层光生伏打系统中，和用于结晶型硅模块中的用途。