[发明专利]抗反射/抗翳影涂料有效

专利信息
申请号: 201080009595.7 申请日: 2010-02-02
公开(公告)号: CN102317381A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: K·希尔登布兰;P·卡佩伦;F-K·布鲁德 申请(专利权)人: 拜尔材料科学股份公司
主分类号: C09D5/00 分类号: C09D5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘维升;林森
地址: 德国莱*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 反射 抗翳影 涂料
【说明书】:

发明涉及含有a)多孔硅石纳米颗粒,b)一种或多种有机可溶性聚合物树脂,c)一种或多种UV可交联的活性稀释剂,d)溶剂和e)UV引发剂体系的组合物,涉及该组合物在透明基材的涂料中的使用,和涉及涂有该配制剂的基材。

该总体系体现特征于良好的“抗反射”性能(增大的透射)与“抗翳影”性能(减少被水蒸汽引起气雾的倾向)的结合。取决于基材,实现在表面性能上,例如在耐磨性和耐化学品性上的进一步机械和化学改进。由于它们的表面亲水性,如此所涂覆的基材能够通过聚电解质概念来涂覆含水配制剂。

通过引入硅石改进涂料的性能原则上很久以来是已知的。这里通过添加硅石颗粒,可以在例如下面的几个方面改进涂层:耐磨损,抗划性,反射性能,光泽,抗静电性能,阻燃性,耐UV性,耐水蒸汽引起气雾(抗翳影),用水可润湿性,和耐化学品性。

因此,在过去并不缺乏尝试提供具有就以上特征而言的进一步改进的总体特性的含硅石(二氧化硅)的涂料组合物。然而,迄今不可能在一种涂料体系中以令人满意的方式兼顾所有这些特征,或这些特征的特定结合,尤其下面所述的结合。

DE 103 11 639 A1描述了具有抗静电性能的模塑体,和涉及生产它的方法。为了实现该目的,包括含丙烯酸酯的粘结剂,醇类溶剂,纳米粒度级导电金属氧化物,纳米粒度级惰性颗粒如二氧化硅和任选的其它添加剂例如分散助剂的漆体系在这一点上进行了描述。所使用的惰性纳米颗粒的平均粒度是2nm-100nm,此类纳米颗粒的用量是基于干燥膜的0.1wt%-50wt%。

在JP-A-61-181809中公开了包括分散在水或低级醇中的α,β-不饱和羧酸类和胶体二氧化硅颗粒的、用于具有良好粘合性和高耐磨性的涂层的UV可固化的组合物。

JP 2006-348375 A描述抗翳影涂料,它得自20wt%-99wt%的由0wt%-80wt%的细颗粒(例如二氧化硅)和100wt%-20wt%的塑料以及0.5wt%-30wt%的具有两个阴离子取代基的磺基琥珀酸盐组成的混合物。

用于具有高的透明度,气候稳定性和抗划性的涂层的生产中的以多官能丙烯酸酯为基础的漆组合物已描述在EP-A 0 050 996中。除所提到的丙烯酸衍生物之外,组合物含有聚合引发剂以及无机填料,例如,具有1nm-1μm的平均粒径和1.40-1.60的折射指数的二氧化硅。

在US-A 4,499,217中描述了包括具有10μm-50μm的平均粒径的胶体二氧化硅和热固化化合物例如蜜胺-醇酸树脂的无水漆组合物。固化涂层具有良好的耐磨性,对各种基材良好的粘合性,以及耐化学品性和耐热性。

JP 2001-019874 A公开了(聚)乙二醇(聚)甲基丙烯酸甲酯,丙烯酰胺,光引发剂,分散助剂和硅石的组合物,用于生产具有高的粘合性和提高的抗划性的涂层。

WO 2006/049008 A1描述了以分散于高沸点溶剂如N,N-二甲基乙酰胺中的硅石微粒为基础的亲水性涂料;非离子型表面活性剂(L-77)的醇溶液被添加到分散体中,然后在100℃下进行热处理10分钟。涂料产生亲水性表面,有可能实现20°或更低的水润湿角。就″抗翳影″性能而言,这一方法用于柔性焦距透镜的涂覆。然而,这些条件不适合于在塑料基材上的涂层,因为它们对于这里所使用的溶剂有敏感性。

由聚乙烯醇缩丁醛的有机溶液和胶态硅石的醇分散体两者的混合物组成的可倾倒配制剂已描述在US-A 4,383,057中。以干重为基础,组合物能够由20wt%-95wt%聚乙烯醇缩丁醛和80wt%-5wt%硅石组成。对于改进稳定性能如抗划性、耐化学品性和阻燃性,聚合物聚乙烯醇缩丁醛是交联的,为此目的使用例如用烷基醚改性的羟甲基蜜胺。对于表面性质如亲水性或水湿润角度没有给出附加的细节。与本申请相比,该配方不是UV可交联的。

如果,如在WO 2006/048277 A中所述,需要生产具有特别高和致密的硅石结构的表面,则常常利用火焰水解反应从硅石前体例如从六甲基二硅氮烷或四乙氧基甲硅烷局部地进行硅石的沉积。这些涂层的疏水性质能够进一步通过氟烷基硅烷的引入而增强。

EP-A 337 695公开了用于固体物、尤其透明基材的耐磨性涂层的二氧化硅分散体。分散体含有被分散在丙烯酸或甲基丙烯酸的质子取代的酯或酰胺中的具有低于100nm、优选低于75nm、特别优选低于50nm的粒度的胶体二氧化硅。这里,每重量份的所使用的不饱和单体,使用0.1-2.5重量份的二氧化硅。在光引发剂的添加后,分散体能够通过UV辐射在合适的基材上固化。

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