[发明专利]照射系统、光刻设备以及形成照射模式的方法

权利要求书

1.一种照射系统，具有多个反射元件，所述反射元件在将辐射引导朝向光瞳平面内的不同部位的不同取向之间是可移动的，由此形成不同的照射模式，其中每个反射元件在将辐射引导朝向光瞳平面处的第一相关部位的相应的第一取向和将辐射引导朝向光瞳平面处的第二相关部位的相应的第二取向之间是可移动的，所述反射元件的相应的第一取向和相应的第二取向由端部限位件限定。

2.根据权利要求1所述的照射系统，其中，每个反射元件安装在相应的安装件上，所述安装件在对应反射元件的第一取向的相应的第一位置和对应反射元件的第二取向的相应的第二位置之间是可移动的，并且其中所述端部限位件限定所述安装件的第一和第二位置并由此限定所述反射元件的相应的第一取向和相应的第二取向。

3.根据权利要求2所述的照射系统，其中，所述安装件包括在第一位置和第二位置之间可移动的一个或多个臂。

4.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中，所述端部限位件具有可调节的位置。

5.根据权利要求2所述的照射系统，其中，所述端部限位件具有可调节的位置，并且所述安装件配置成使得能够通过调节一个或多个端部限位件的位置调节反射元件的旋转轴线的取向。

6.根据权利要求2-5中任一项所述的照射系统，其中，所述安装件连接至配置用以在第一位置和第二位置之间移动安装件的致动器。

7.根据权利要求6所述的照射系统，其中，所述致动器连接至多个相应的安装件，并且配置成同时在相应的第一和第二位置之间移动所述多个相应的安装件。

8.根据权利要求6或7所述的照射系统，其中，所述致动器是压电致动器、静电致动器、双金属致动器或马达。

9.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中，所述多个反射元件包括构造并布置成围绕同一轴线可旋转的反射元件组。

10.根据权利要求9所述的照射系统，其中，所述多个反射元件包括构造并布置成围绕另外的同一轴线可旋转的另外的反射元件组，并且其中所述轴线和所述另外的轴线通过所述照射系统的光轴。

11.根据权利要求9所述的照射系统，其中，所述多个反射元件包括构造并布置成围绕另外的同一轴线可旋转的另外的反射元件组，并且其中所述轴线和所述另外的轴线不通过照射系统的光学轴线。

12.根据前述权利要求中任一项所述的照射系统，其中，所述照射系统包括设置在光瞳平面内的另外的多个反射元件。

13.一种包括根据权利要求1-12中任一项所述的照射系统的光刻设备。

14.一种在照射系统中形成照射模式的方法，所述方法包括步骤：

将多个反射元件移动至由端部限位件限定的相应的第一取向；

在光瞳平面处相关的第一部位处引导辐射以形成第一照射模式；

随后，移动所述多个反射元件中的至少一部分至由端部限位件限定的相应的第二取向，和

在光瞳平面处相关的第二部位处引导辐射以形成第二照射模式。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述第一和第二照射模式是选自传统的同轴照射模式和离轴照射模式、或选自第一离轴照射模式和第二离轴照射模式的相互不同的照射模式。

16.根据权利要求14所述的方法，其中，与反射元件相关的相关的第一和第二部位包含在以照射系统的光轴为中心的光瞳平面的圆形截面的象限内。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第一和第二部位彼此沿径向分离。

18.根据权利要求16或17所述的方法，其中，所述第一和第二部位的位置与同对应的另外的反射元件相关的另外的第一和第二部位的位置相关联，并且其中第一和第二部位的所述位置与另外的第一和第二部位的位置相对于平分所述象限的线对称。