[发明专利]玻璃基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080010281.9 申请日: 2010-03-08
公开(公告)号: CN102341214A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 下津浩一;中津广之;三成泰纪;高桥祐之;江田道治;飨场久敏 申请(专利权)人: 日本电气硝子株式会社
主分类号: B24B9/00 分类号: B24B9/00;C03C19/00;G02F1/1333;H01J9/24;H01J17/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 玻璃 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种玻璃基板,具有表面和背面以及存在于这两面的外周端的相互之间的端面,其特征在于,

在所述表面和背面中至少一方的面与所述端面之间的边界部形成有倒角面,该倒角面的十点平均粗糙度Rz2小于所述端面的十点平均粗糙度Rz1,且该倒角面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm2大于所述端面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm1

2.根据权利要求1所述的玻璃基板,其特征在于,

所述倒角面的十点平均粗糙度Rz2及所述端面的十点平均粗糙度Rz1满足Rz2≤1.5μm且1.5≤Rz1/Rz2≤10.0的关系。

3.根据权利要求2所述的玻璃基板,其特征在于,

所述倒角面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm2满足RSm2≥100μm的关系。

4.一种玻璃基板,具有表面和背面以及存在于这两面的外周端的相互之间的端面,其特征在于,

在所述表面和背面中至少一方的面与所述端面之间的边界部形成有倒角面,该倒角面中的突出谷部深度Rvk满足Rvk≤0.95μm的关系。

5.一种玻璃基板,具有表面和背面以及存在于这两面的外周端的相互之间的端面,其特征在于,

在所述表面和背面中至少一方的面与所述端面之间的边界部形成有倒角面,该倒角面中的粗糙度曲线的均方根斜率RΔq满足RΔq≤0.10的关系。

6.一种玻璃基板,具有表面和背面以及存在于这两面的外周端的相互之间的端面,其特征在于,

在所述表面和背面中至少一方的面与所述端面之间的边界部形成有倒角面,该倒角面中的最大谷深度Rv满足Rv≤2.0μm的关系。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的玻璃基板,其特征在于,

所述倒角面通过研磨处理形成。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板,其特征在于,

所述倒角面通过所述端面的研磨处理后的研磨处理形成。

9.根据权利要求8所述的玻璃基板,其特征在于,

所述端面作为平坦面而形成在所述表面及背面的外周端的相互之间。

10.根据权利要求8所述的玻璃基板,其特征在于,

所述端面形成为从所述表面及背面的外周端到板厚中央部逐渐向外方突出的弯曲面。

11.根据权利要求10所述的玻璃基板,其特征在于,

在与所述端面的长度方向正交且与所述表面及背面正交的截面中,在表面侧的边界部形成的所述倒角面的朝向表面侧的切线与所述表面所成的角度α、及在背面侧的边界部形成的所述倒角面的朝向背面侧的切线与所述背面所成的角度β分别满足10°≤α≤30°及10°≤β≤30°的关系。

12.根据权利要求11所述的玻璃基板,其特征在于,

板厚T满足0.05mm≤T≤1.1mm的关系。

13.根据权利要求12所述的玻璃基板,其特征在于,

板厚T和所述倒角面的与长度方向正交的方向的宽度W满足0.07≤W/T≤0.30的关系。

14.一种玻璃基板的制造方法,制造权利要求7所述的玻璃基板,其特征在于,

作为对所述倒角面进行研磨的研磨工具,使用具有与旋转轴正交的研磨面的旋转研磨工具,且所述研磨面的外周部的粗糙度形成得比内周部的粗糙度小,并且相对于玻璃基板的表面及背面中的至少一方的面与研磨处理后的端面之间的边界部,使所述旋转研磨工具沿该边界部长度方向相对地进行直线移动并同时绕所述旋转轴旋转,从而通过所述研磨面的外周部及内周部这双方形成所述倒角面。

15.一种玻璃基板的制造方法,制造权利要求8所述的玻璃基板,其特征在于,

对玻璃基板的端面实施粗研磨处理后再实施精研磨处理,然后利用具有比所述精研磨处理粒度细的研磨工具,对玻璃基板的表面及背面中的至少一方的面与所述端面之间的边界部实施特定研磨处理,从而形成所述倒角面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电气硝子株式会社,未经日本电气硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080010281.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top