[发明专利]狭缝模具涂布方法

权利要求书

1.一种将光学涂层涂覆到基材上的方法，所述方法包括如下步骤：

a.制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；

b.利用模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；

c.干燥所述被涂基材，其中所述被涂基材处于基本水平的平面，从而使所述湿膜转换成厚度小于1μm的干膜；以及

d.可选地固化所述被涂基材，其中，所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过10％的固体。

2.如权利要求1的方法，其中，所述涂层制剂包含不超过3wt％的固体。

3.如权利要求1或2的方法，其中，所述成膜组分包含，相对于所述涂层制剂中的固体总重，至少30wt％的纳米颗粒。

4.如权利要求3的方法，其中，所述纳米颗粒包括至少一种无机氧化物或无机氧化物前驱体。

5.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，所述涂层制剂的表面张力在20至73dyn.cm^-1的范围内。

6.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，所述溶剂组分包含的溶剂选自由如下组成的组：甲醇、乙醇、甲基乙基甲酮、丙酮、1-丙醇、2-丙醇或1-甲氧基丙-2-醇、1-丁醇、2-丁醇、2-甲基-2-丙醇或其组合。

7.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，所述成膜组分包含至少一种低聚化合物或聚合化合物。

8.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，所述狭缝模具包括由位于所述光学涂层的流的上游的上游边缘(7a)和位于所述光学涂层的流的下游的下游边缘(7b)所限定的狭缝间隙(3)，其中

a.处于所述狭缝间隙远端的所述下游边缘与所述基材之间的高度(9)为至少20μm；

b.所述狭缝间隙(3)是所述湿膜厚度的1.1至15倍。

9.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，所述狭缝模具包括为所述湿膜厚度的至少1.5倍的狭缝模具间隙，其与用于稳定所涂覆的光学涂层的上游液珠弯月面的减压装置组合。

10.如前述权利要求中任意一项的方法，其中，以至少5米每秒且小于100米每秒的涂布速度涂布所述基材。

11.一种光学被涂基材，其中，所述基材的至少一侧上至少0.01m²的表面积上涂有含有纳米颗粒和粘结剂的涂层，其中所述涂层具有不超过1000nm的厚度并且在所述基材的所述表面积上具有小于40nm的厚度公差，所述厚度公差以2×标准偏差表示。

12.如权利要求11的光学被涂基材，其中，所述涂层具有小于10nm每米的厚度梯度。

13.如权利要求11或12的光学被涂基材，其中，所述光学涂层是抗反射或UV涂层。

14.如权利要求11至13中任意一项的光学被涂基材，其中，所述光学被涂基材是抗反射的被涂玻璃板或抗反射的被涂塑料基材。

15.如权利要求11至14中任意一项的光学被涂基材，其中，所述光学被涂基材形成太阳能板、建筑玻璃、园艺玻璃、图片玻璃、显示器玻璃或LCD显示器玻璃的至少一部分。