[发明专利]基板清洗方法

权利要求书

1.一种基板清洗方法，是对表面形成有微细图案的基板清洗的基板进行清洗方法，该基板清洗方法的特征在于，包括：

将所述基板从在所述基板的表面实施规定的加工的处理腔室向实施所述基板的清洗的清洗腔室输送的输送步骤；

在所述清洗腔室内将所述基板冷却到规定的温度的冷却步骤；和

向所述基板的表面供给超流体，然后，通过使所述超流体从所述基板的表面流出而将所述微细图案内的污染成分冲走的超流动清洗步骤。

2.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于：

所述超流动清洗步骤通过向所述基板供给所述超流体，并且回收从所述基板流出的所述超流体来实施。

3.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于：

所述超流动清洗步骤包括：

将所述基板浸渍在所述超流体中的浸渍步骤；

通过使浸渍所述基板的所述超流体的水位比所述基板的表面低，而使所述超流体从所述基板的表面流出的流出步骤。

4.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于：

所述超流体是氦。

5.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于：

所述微细图案的特征长度为0.1μm以下。

6.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于：

在通过所述超流体对所述基板进行清洗处理之前或之后，还具有通过超临界流体清洗所述基板的超临界清洗步骤。