[发明专利]用于低温沉积钌的组合物和方法

权利要求书

1.化学组合物，其包含：

第一溶剂；

第二溶剂；以及

在所述第一溶剂和第二溶剂中的浓度大于1.0重量％的四氧化钌(RuO₄)。

2.如权利要求1所述的化学组合物，其中所述四氧化钌的浓度范围为1.0重量％至1.2重量％。

3.如权利要求2所述的化学组合物，其中所述第一溶剂的浓度小于30％且所述第二溶剂的浓度大于70％。

4.如权利要求2所述的化学组合物，其进一步包含小于10PPM H₂O的水。

5.如权利要求1所述的化学组合物，其中所述第一溶剂的浓度小于30％且所述第二溶剂的浓度大于70％。

6.如权利要求1所述的化学组合物，其中所述四氧化钌的浓度范围为1.6重量％至1.7重量％。

7.如权利要求6所述的化学组合物，其中所述第一溶剂的浓度小于30％且所述第二溶剂的浓度大于70％。

8.如权利要求6所述的化学组合物，其进一步包含小于10PPM H₂O的水。

9.如权利要求1所述的化学组合物，其中所述四氧化钌的浓度范围为1.0重量％至1.7重量％。

10.方法，其包括：

提供一定体积的第一混合物，所述第一混合物包含具有第一溶剂比第二溶剂的第一比例的第一溶剂和第二溶剂；

将所述体积的所述第一混合物置于容器中；

将所述容器中的所述第一溶剂和所述第二溶剂蒸发以形成蒸气；

将所述蒸气从所述容器中释放，使得一定体积的第二混合物保留在所述容器中；

测定保留在所述容器中的所述体积的所述第二混合物中所述第一溶剂比所述第二溶剂的第二比例；

在测定第二比例后，测定用于与保留在所述容器中的所述体积的所述第二混合物组合的一定体积的第三混合物中所述第一溶剂比所述第二溶剂的第三比例，使得当所述体积的所述第二混合物和所述体积的所述第三混合物组合时近似地重建所述第一比例。

11.如权利要求10所述的方法，其中提供所述体积的所述第一混合物包括：将一定体积的所述第一溶剂与一定体积的所述第二溶剂掺合以提供所述体积的所述第一混合物。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述第一溶剂和所述第二溶剂具有不同的蒸气压，使得当所述体积的所述第二混合物保留在所述容器中时，所述第二比例不同于所述第一比例。

13.如权利要求10所述的方法，其中所述第一比例在30体积％∶70体积％至28体积％∶72体积％的范围内。

14.如权利要求10所述的方法，其中所述第二比例在30体积％∶70体积％至20体积％∶80体积％的范围内。

15.如权利要求10所述的方法，其中所述混合物具有小于10PPM的H₂O。

16.如权利要求10所述的方法，其中所述混合物具有小于5PPM的H₂O。

17.如权利要求10所述的方法，其中蒸发所述第一溶剂和所述第二溶剂包括：

加热所述容器以形成蒸气；以及

使载气流过所述容器。

18.方法，其包括：

获得包含RuO₄、第一溶剂和以30体积％至70体积％的比例与所述第一溶剂组合的第二溶剂的混合物；

将所述混合物置于与沉积系统成流体连接的容器中；

进行沉积方法，其将包含所述第一溶剂、所述第二溶剂和RuO₄的蒸气从所述容器提供至所述沉积系统，在所述容器中以高于所述第二溶剂的速率从所述混合物中消耗所述第一溶剂；以及

使用包含RuO₄、所述第一溶剂和以大于30体积％至70体积％的第二比例与所述第一溶剂组合的所述第二溶剂的补充混合物补充所述容器。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述沉积方法是ALD或CVD。