[发明专利]模拟太阳光照射装置无效
申请号: | 201080011802.2 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN102341641A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 南功治 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;G02B5/02;F21Y101/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模拟 太阳光 照射 装置 | ||
1.一种模拟太阳光照射装置,将模拟太阳光照射在照射面,其特征在于,
包括:
第一光源,照射第一光;
第一滤光器,调整所述照射的第一光的发光光谱;
第二光源,照射与所述第一光不同的第二光;
第二滤光器,调整所述照射的第二光的发光光谱;
光选择单元,选择所述发光光谱被调整的所述第一光的短波长侧、和所述发光光谱被调整的所述第二光的长波长侧并出射;
光透过单元,使所述出射的光透过,并且宽度从该光的入射面向出射面缓缓减小;
导光板,入射有从所述光透过单元出射的光;以及
光反射单元,形成于所述导光板的内部,使入射至所述导光板的光向所述照射面反射。
2.如权利要求1所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述第一光源是照射所述第一光即氙光的氙光源,
所述第二光源是照射所述第二光即卤素光的卤素光源。
3.如权利要求1或2所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述光透过单元的宽度从该光透过单元的所述入射面向所述出射面直线状地减小。
4.如权利要求1至3中任一项所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述光选择单元选择750nm以下的所述第一光,并且选择750nm以上的所述第二光。
5.如权利要求1至4中任一项所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述光选择单元是45°波长选择反射镜,使所述第一光及所述第二光中任一个反射,并且使另一个透过。
6.如权利要求5所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
在所述光选择单元的两面分别设有45°倾斜棱镜。
7.如权利要求1至6中任一项所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述光透过单元的入射面的宽度与出射面的宽度之差是17mm以下。
8.如权利要求1~7中任一项所述的模拟太阳光照射装置,其特征在于,
所述光透过单元的长度是300mm以下。
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