[发明专利]激光照射装置和激光加工方法

权利要求书

1.一种激光照射装置，其包括：

光源，射出激光光线；以及

照射光学系统，具有一个或多个透镜，将光源射出的激光光线引导并聚光到对象物上，所述激光照射装置的特征在于，

所述照射光学系统的至少一个透镜使用双折射材料作为原料。

2.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，

所述照射光学系统包括光束扩展器，所述光束扩展器在激光光线的行进方向上依次具有作为凹透镜或凸透镜的第一透镜、以及作为凸透镜的第二透镜，并且所述第一透镜和第二透镜的间隔能够改变，

使用双折射材料作为所述第一透镜和/或第二透镜的原料。

3.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，

所述照射光学系统还包括聚光透镜，所述聚光透镜设置在激光光线的行进方向最后方，

使用双折射材料作为所述聚光透镜的原料。

4.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，以所述双折射材料为原料的透镜的晶轴方向与照射光学系统的光轴方向垂直相交。

5.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，所述双折射材料为光学水晶。

6.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，所述激光照射装置还包括相对移动装置，所述相对移动装置使对象物相对于所述照射光学系统的位置，能在与照射光学系统的光轴垂直的平面内的两个垂直相交方向上相对移动，并且能在光轴方向上相对移动。

7.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，

所述照射光学系统还包括1/2波长板，所述1/2波长板能以光轴为中心进行转动，

所述1/2波长板以激光光线的行进方向为基准，设置在以所述双折射材料为原料的透镜的前方。

8.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，

所述照射光学系统还包括1/4波长板，

所述1/4波长板以激光光线的行进方向为基准，设置在以所述双折射材料为原料的透镜的后方。

9.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，所述激光光线的波长在200nm以上、且在11μm以下。

10.根据权利要求1所述的激光照射装置，其特征在于，所述激光光线的激发方式为连续激发或脉冲激发。

11.一种激光加工方法，其特征在于，使用权利要求1所述的激光照射装置。

12.根据权利要求11所述的激光加工方法，其特征在于，将由所述激光照射装置形成的多个光束腰的间隔调节为瑞利长度的0.5倍至10倍。