[发明专利]定影装置和成像设备

权利要求书

1.一种定影装置，包括：

定影元件，该定影元件被构造成包括加热元件；

压力施加元件，该压力施加元件被构造成压接触所述定影元件，以在二者之间形成辊隙部分；

激励线圈，该激励线圈被构造成感应加热所述定影元件的加热元件；

第一温度探测单元，其被构造成探测压力施加元件的第一温度和定影元件的第一周围温度中的一个；

第二温度探测单元，其被构造成探测定影元件的第二温度；以及

控制单元，其被构造成选择温度控制模式和功率控制模式中的一个，以控制向激励线圈供给的电功率，

其中，在接收到表示电流已经施加到激励线圈上的信号时，当第一温度探测单元探测到的压力施加元件的第一温度超过第一阈值温度或者第一温度探测单元探测到的定影元件的第一周围温度超过第一周围阈值温度时，控制单元选择温度控制模式，在该模式下，根据由第二温度探测单元探测到的定影元件的第二温度来确定供给激励线圈的电功率；并且

在接收到表示电流已经施加到激励线圈上的信号时，当第一温度探测单元探测到的压力施加元件的第一温度等于或小于第一阈值温度或者第一温度探测单元探测到的定影元件的第一周围温度等于或小于第一周围阈值温度时，控制单元选择功率控制模式，在该模式下，预定的恒定电功率被连续施加到激励线圈。

2.如权利要求1所述的定影装置，其中，所述温度控制模式包括PID反馈控制，其中，施加到激励线圈的电功率是根据第二温度探测单元所探测到的定影元件的第二温度与定影元件的目标温度之间的差来确定的。

3.如权利要求1所述的定影装置，其中，在功率控制模式下，供给激励线圈的电功率是供给定影装置的最大功率。

4.如权利要求1所述的定影装置，其中，在功率控制模式下向激励线圈提供电功率的同时，在第二温度探测单元所探测到的定影元件的第二温度已经达到第三温度时，控制单元选择温度控制模式，所述第三温度比定影元件的目标温度低预定差值。

5.如权利要求1所述的定影装置，其中，当电功率被供给到激励线圈并且第二温度探测单元所探测到的定影装置的第二温度已经第一次达到定影元件的目标温度时，控制单元控制提供给激励线圈的电功率，使得定影装置的第二温度保持在定影元件的目标温度预定持续时间，并且在定影装置的第二温度已经保持在定影元件的目标温度预定持续时间之后，记录介质开始穿过定影装置。

6.如权利要求1所述的定影装置，其中，当电功率被供给到激励线圈并且第二温度探测单元所探测到的定影装置的第二温度第一次超过定影装置的目标温度时，在第二温度探测单元所探测的定影装置的第二温度已经再次落到定影装置的目标温度之下时，记录介质开始穿过定影装置。

7.如权利要求1所述的定影装置，其中，当记录介质开始穿过定影装置时，控制单元选择温度控制模式，以控制提供给激励线圈的电功率，使得温度控制模式所确定的电功率包括预定的额外电功率，并且从记录介质已经开始穿过定影装置起，包括所述预定的额外电功率的由温度控制模式所确定的电功率被供给到激励线圈预定持续时间。

8.一种成像设备，包括如权利要求1所述的定影装置。