[发明专利]光波导装置及其制造方法

权利要求书

1.一种光波导装置，其包括光波导和光学元件安装座，所述光波导由包括形成在基底上的下覆层、芯层和上覆层的光波导形成层构成，在去除所述光波导形成层的一部分的区域中，光学元件安装在所述光学元件安装座上，所述光学元件中的至少一个光学元件光学耦合到通过去除所述光波导形成层的所述部分而暴露的所述光波导的端面，

其中所述光学元件安装座包括：

第一基块，支撑作为所述光学元件中的一个光学元件的第一光学元件；和

第二基块，支撑作为所述光学元件中的一个光学元件的第二光学元件，所述第二光学元件的有源层深度小于所述第一光学元件的有源层深度，并且其中

所述第二基块由堆叠数量大于所述第一基块的堆叠数量的上覆层形成，并且

所述第一和第二基块之间的高度差等于所述第一和第二光学元件之间的有源层深度差。

2.根据权利要求1所述的光波导装置，其中由所述第二基块支撑的所述第二光学元件的光轴的高度和由所述第一基块支撑的所述第一光学元件的光轴的高度均匹配从所述基底至所述芯层的所述光波导形成层的光轴高度。

3.根据权利要求1所述的光波导装置，其中所述第一基块支撑所述光学元件中具有最大有源层深度的光学元件，并且所述第一基块由一个上覆层形成。

4.一种制造光波导装置的方法，所述光波导装置包括光波导和光学元件安装座，所述光波导由包括形成在基底上的下覆层、芯层和上覆层的光波导形成层构成，在去除所述光波导形成层的一部分的区域中，光学元件安装在所述光学元件安装座上，所述光学元件中的至少一个光学元件光学耦合到通过去除所述光波导形成层的所述部分而暴露的所述光波导的端面，

所述方法包括：

在所述基底上形成所述下覆层和所述芯层；

通过图案化所述芯层形成波导；

在图案化之后成为所述光波导的部分以及成为所述光学元件安装座的至少一部分上形成上覆层的堆叠；以及

蚀刻所述上覆层的堆叠形成用于支撑作为所述光学元件中的一个光学元件的第一光学元件的第一基块，并且形成用于支撑所述光学元件中的第二光学元件的第二基块，第二光学元件的有源层深度小于所述第一光学元件的有源层深度，其中

所述第二基块由堆叠数量大于所述第一基块的堆叠数量的上覆层的堆叠形成，并且

所述第一和第二基块形成为使得所述第一基块和所述第二基块之间的高度差等于所述第一和第二光学元件之间的有源层深度差。

5.根据权利要求4所述的制造光波导装置的方法，其中所述第一和第二基块形成为使得由所述第二基块支撑的所述第二光学元件的光轴的高度和由所述第一基块支撑的所述第一光学元件的光轴的高度均匹配从所述基底至所述芯层的所述光波导形成层的光轴高度。

6.根据权利要求4所述的制造光波导装置的方法，其中所述第一基块支撑所述光学元件中具有最大有源层深度的光学元件，并且所述第一基块由上覆层的一个堆叠形成。