[发明专利]抗蚀剂图案的形成方法以及设备无效
| 申请号： | 201080012819.X | 申请日： | 2010-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN102362225A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 上原刚;青山哲平 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F1/48;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 图案 形成 方法 以及 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，依次执行：
抗蚀剂涂敷工序，在设备的基板上涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂 层；
大气压远程等离子灰化工序，使灰化用处理气体通过压力接近大气压 的放电空间而喷出并接触所述抗蚀剂层；
曝光工序，对所述抗蚀剂层局部地照射光；和
显影工序，使所述抗蚀剂层接触显影液。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，
所述灰化用处理气体是氮气、或氧与氮的混合气体，氧含有量为0～ 20体积％。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，
在所述曝光工序之后、并且所述显影工序之前，进行大气压远程等离 子亲液化工序，该大气压远程等离子亲液化工序使亲液化用处理气体通过 压力接近大气压的第二放电空间而喷出并与所述抗蚀剂层接触。
4.根据权利要求3所述的抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，
所述亲液化用处理气体是氮气、或氮与氧的混合气体，氧含有量为0～ 20体积％。
5.一种设备，其特征在于，
是利用权利要求1～4中任一项所述的抗蚀剂图案的形成方法来制造 的。
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