[发明专利]光学成像写入系统

权利要求书

1.一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法，包含下列步骤：

提供一平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；

接收一待写入该基板的光掩膜数据图案；

处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案；

控制该复数个SLM成像单元，以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板；

控制该复数个SLM成像单元的移动，使其涵盖该基板的不同区域；及

控制该SLM成像单元的移动，使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。

2.如权利要求1的方法，其中控制该复数个SLM成像单元的步骤包含：

处理该复数个分区光掩膜数据图案，其间不需更换光掩膜即可从待写入该基板的第一设计自动切换至第二设计。

3.如权利要求1的方法，其中控制该复数个SLM成像单元的步骤尚包含：

监视各该SLM成像单元的焦点；及

在曝光过程中实时调整各该SLM成像单元的焦点。

4.如权利要求3的方法，其中监视各该SLM成像单元的焦点包含：

截取曝光中的影像；及

比较所截取的影像的图案与预期的曝光图案，藉此判定失焦程度。

5.如权利要求3的方法，其中监视各该SLM成像单元的焦点尚包含：

截取曝光中的影像的空间频率；及

比较所截取的影像的高频成分以判定失焦程度。

6.如权利要求3的方法，其中监视各该SLM成像单元的焦点尚包含：

决定焦点调整方向，其作法是在一以目标焦点位置为中心的范围内变化一所述SLM成像单元的焦点；及

更新该目标焦点位置，藉以平衡该范围两端的误差。

7.如权利要求3的方法，其中监视各该SLM成像单元的焦点尚包含：

决定焦点调整方向，其作法是以不同的光程长度截取影像；及

将各该SLM成像单元调整至一对应于预定关键尺寸的焦深(DOF)范围。

8.如权利要求7的方法，其中决定焦点调整方向包含：

利用一加总过程控制该基板某一区域的曝光量，此控制是以复数个对应的光掩膜数据图案的各别曝光为依据。

9.如权利要求8的方法，其中各该光掩膜数据图案包含：

由暗区包围的独立孔状图案；及

由亮区包围的独立岛状图案。

10.如权利要求3的方法，其中调整各该SLM成像单元的焦点包含：

调整焦点设定以修正焦点过远的情形；及

调整焦点设定以修正焦点过近的情形。

11.如权利要求1的方法，其中该复数个SLM成像单元的实体尺寸小于该基板的实体尺寸。

12.如权利要求1的方法，尚包含下列步骤：

使该基板包含具有不同尺寸的不同设计；及

分别根据该不同设计分割该基板。

13.一种平行成像写入系统，包含：

复数个空间光调制器(SLM)成像单元，其中各该复数个SLM成像单元包含一或多个照明光源、一或多个定线光源、一或多个投影透镜及复数个微镜，该微镜用于将该一或多个照明光源的光投射至相对应的该一或多个投影透镜；及

一用以控制该复数个SLM成像单元的控制器，其中当该复数个SLM成像单元于一光刻制程中将光掩膜数据写入基板时，该控制器可使该复数个SLM成像单元的移动与该基板的移动同步。

14.如权利要求13的平行成像写入系统，其中该一或多个照明光源包含一或多个光化光源，其可将一光掩膜数据图案写入该基板；该一或多个定线光源则包含一非光化光源，其可将一所述SLM成像单元聚焦于该基板的一对应区域。

15.如权利要求14平行成像写入系统，其中该非光化光源包含一红光激光器二极管，该一或多个光化光源则包含四个蓝光激光器二极管。