[发明专利]微波等离子体处理装置

权利要求书

1.一种微波等离子体处理装置，其特征在于，包括：

顶壁部由电介质窗划定的处理容器；

对所述处理容器进行减压的气体排气系统；

向所述处理容器供给等离子体气体的等离子体气体供给部；和

载置在所述处理容器的所述电介质窗上，激励所述处理容器内的 等离子体气体的微波天线，

所述微波天线包括：

在水平方向上传播微波并且对微波的波长进行压缩的电介质板； 和

设置在所述电介质板与所述电介质窗之间，具有使微波透过的缝 隙的缝隙板，

使所述电介质窗与所述电介质板之间为1～600Torr(1.3332×10²～ 7.9993×10⁴Pa)的范围的负压。

2.如权利要求1所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波天线还包括冷却板，该冷却板设置在所述电介质板的上 表面，冷却所述电介质板，

使所述电介质板与所述冷却板之间为1～600Torr(1.3332×10²～ 7.9993×10⁴Pa)的范围的负压。

3.如权利要求1或2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述负压的范围为200～400Torr(2.6664×10⁴～5.3329×10⁴Pa)。

4.如权利要求1或2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述缝隙板包含在所述电介质板的下表面侧形成的导电膜。

5.如权利要求4所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

在所述电介质板的上表面形成有反射微波的导电膜。

6.如权利要求2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述同轴波导在包括内周侧的内导体和外周侧的外导体的同轴波 导管形成，

在所述同轴波导中嵌入有环形电介体，

所述内导体与所述环形电介质之间由内侧密封部件密封，并且所 述外导体与所述环形电介质之间由外侧密封部件密封。

7.如权利要求2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

在所述电介质板的下表面，形成有作为所述缝隙板的导电膜，

在所述电介质板的上表面形成有反射微波的导电膜，

所述电介质板的下表面侧的导电膜与所述电介质窗之间由环形的 第一密封部件密封，并且所述电介质板的上表面侧的导电膜与所述冷 却板之间由环形的第二密封部件密封。

8.如权利要求2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

在所述处理容器安装有：用于将所述电介质窗固定在所述处理容 器的电介质窗按压部；和用于将所述微波天线固定在所述电介质窗的 天线按压部，

在所述电介质窗、所述电介质板和所述冷却板的外周，与所述电 介质窗按压部和所述天线按压部的内周之间，形成有负压路，

在所述负压路设置有吸引气体的吸引口。

9.如权利要求2、6、7、8中任一项所述的微波等离子体处理装 置，其特征在于：

通过调整所述电介质窗与所述电介质板之间、以及所述电介质板 与所述冷却板之间的压力，来进行所述电介质窗和所述电介质板的温 度控制。