[发明专利]光照射装置及光测定装置

权利要求书

1.一种光照射装置，其特征在于，

用于从微量盘的背面侧向该微量盘照射测定光，所述微量盘具有 二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面，及与该主面相对的 背面，

所述光照射装置包含：

光源，输出从所述微量盘的背面侧向所述多个井分别照射的测定 光；及

导光部件，使从所述光源输出的测定光在其内部传播，且具有： 直接面对所述微量盘的背面的主面、与该主面相对的背面、及作为与 这些主面及背面交叉的面的入射来自所述光源的测定光的侧面，

所述导光部件具有多个光出射部，其分别对应于所述微量盘的多 个井而设置在该导光部件的主面上，且分别控制所述测定光的出射方 向，以避免在所述导光部件内传播的测定光从垂直于所述微量盘的背 面的方向入射。

2.一种光测定装置，其特征在于，

具备：

如权利要求1所述的光照射装置；及

微量盘，其具有二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面、 及与该主面相对的背面，且以直接面对所述光照射装置的所述导光部 件的主面的方式配置。

3.如权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个光出射部分别包含从该导光部件的主面向背面延伸并在 该主面具有开口的1个或1个以上的凹部，

从该侧面入射至所述导光部件内的所述照射光，在所述凹部的各 个侧面折射及反射，并从所述凹部各自的开口出射。

4.如权利要求3所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个凹部分别是圆柱形状的低洼部。

5.如权利要求3或4所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个凹部分别具有平坦的底面。

6.如权利要求5所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个凹部各自的底面被实施镜面加工。

7.一种光测定装置，其特征在于，

具备：

如权利要求3所述的光照射装置；及

微量盘，其具有二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面、 及与该主面相对的背面，且以直接面对设置于所述光照射装置的所述 导光部件的主面上的多个凹部的开口的方式配置。

8.如权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个光出射部分别包含1个或1个以上的凸部，该凸部从所 述导光部件的主面向背面侧的相反侧延伸，并具有与所述主面大致平 行的上表面，

所述导光部件能够配置为，使所述凸部各自的上表面与所述微量 盘的背面接触。

9.如权利要求8所述的光照射装置，其特征在于，

所述多个凸部分别具有比所述导光部件高的折射率。

10.如权利要求8或9所述的光照射装置，其特征在于，

所述导光部件的主面及背面分别被实施镜面加工。

11.如权利要求8或9所述的光照射装置，其特征在于，

还具有填充部件，其填充于设置在所述导光部件的主面上的多个 凸部间的空间，且具有比所述多个凸部的各个低的折射率。

12.一种光测定装置，其特征在于，

具备：

如权利要求8所述的光照射装置；及

微量盘，其具有二维配置有用于容纳测定对象物的多个井的主面、 及与该主面相对的背面，且以直接面对设置于所述光照射装置的所述 导光部件的主面上的所述多个凸部的上表面的方式配置。