[发明专利]小滴形成流体处理装置及在流体处理装置中形成过滤小滴的方法

权利要求书

1.一种流体处理装置，所述装置包括：

外壳，所述外壳具有包括用于接纳未过滤的流体的上贮存器的 上部、包括用于接纳过滤过的流体的下贮存器的下部、和包括小滴 形成流体过滤系统的中间部，其中所述小滴形成过滤系统包括接纳 来自所述上贮存器的流体的雨滴效应递送系统，所述雨滴效应递送 系统具有流体递送表面，所述表面被构造成用于在所述流体递送表 面的一个区域上形成单个流体小滴。

2.如权利要求1所述的流体处理装置，其中所述流体递送表面形成单个 流体小滴，所述小滴在所述流体递送表面的所述区域上限定至少6个 不同的滴点，在所述流体递送表面的区域处所述小滴从所述流体递 送表面落下，其中所述雨滴效应递送系统被构造成以9个小滴/秒或 更大的速率，优选地以介于9个小滴/秒和200个小滴/秒之间的速率 提供小滴，并且更优选地被构造成提供介于2000个和25000个之间 的流体小滴/升流体。

3.如权利要求1所述的流体处理装置，所述装置还包括过滤介质，所述 过滤介质被构造成过滤来自所述上贮存器的未过滤的流体，其中所 述雨滴效应递送系统具有接纳来自所述过滤介质的过滤过的水的流 体接纳表面、和与所述流体接纳表面相对的所述流体递送表面，所 述雨滴效应递送系统包括从所述流体接纳表面延伸至所述流体递送 表面的通道，过滤过的流体从所述流体接纳表面行进穿过所述通道 到达所述流体递送表面。

4.如权利要求1所述的流体处理装置，其中所述流体递送表面具有表面 能，所述表面能被选择以用于在所述流体递送表面的一个区域上形 成单个流体小滴，其中所述流体递送表面的表面能小于在过滤操作 期间接触所述流体递送表面的流体的表面张力，并且其中所述流体 递送表面的表面能为20达因/厘米至70达因/厘米，其中所述流体递 送表面的表面能被选择成形成所述流体的悬垂滴，所述悬垂滴在过 滤操作期间粘着到所述流体递送表面上。

5.如权利要求1所述的流体处理装置，其中所述小滴形成流体过滤系统 呈滤筒形式。

6.如权利要求1所述的流体处理装置，其中所述流体递送表面与所述外 壳的底部间隔开一定距离，所述距离为所述外壳的总高度的至少 30％。

7.如权利要求1所述的流体处理装置，其中所述小滴形成流体过滤系统 被构造成提供穿过所述小滴形成流体过滤系统的介于85mL/min和 600mL/min之间的流量。

8.一种使用流体处理装置来提供过滤过的流体的方法，所述方法包 括：

用未过滤的流体填充所述流体处理装置的上贮存器；

使用过滤介质来过滤所述未过滤的流体从而提供过滤过的流 体：以及

使用雨滴效应递送系统来形成单个过滤过的流体小滴，所述雨 滴效应递送系统接纳来自所述过滤介质的过滤过的流体，所述雨滴 效应递送系统具有流体递送表面，所述表面被构造成用于在所述流 体递送表面的一个区域上形成单个过滤过的流体小滴。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述流体递送表面具有表面能，所述 表面能被选择成用于在所述流体递送表面的一个区域上形成单个过 滤过的流体小滴：其中所述流体递送表面的表面能为20达因/厘米至 70达因/厘米，并且其中所述流体递送表面的表面能小于接触所述流 体递送表面的所述过滤过的流体的表面张力。

10.如权利要求8所述的方法，其中形成所述单个过滤过的流体小滴的步 骤包括以9个小滴/秒或更大，优选介于9个小滴/秒至约56个小滴/ 秒之间的速率提供小滴；其中形成所述单个过滤过的流体小滴的步 骤包括形成所述过滤过的流体的悬垂滴，所述悬垂滴在过滤期间粘 着到所述流体递送表面上，其中形成所述单个过滤过的流体小滴的 步骤包括提供介于2000个和25000个之间的流体小滴/升流体。