[发明专利]烹调装置和烹调装置的控制方法有效
申请号: | 201080014324.0 | 申请日: | 2010-03-08 |
公开(公告)号: | CN102368933A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 白彩玄;李廷镐;李容守;李承灿;金亮卿;白丞祚 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | A47J27/00 | 分类号: | A47J27/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李玉锁;张浴月 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烹调 装置 控制 方法 | ||
技术领域
本公开文件涉及一种烹调装置和烹调装置的控制方法。
背景技术
通常而言,烹调装置是一种使用加热源烹调或加热食物的设备。
烹调装置的例子可以包括用以限定烹调食物的烹调室的腔体、加热烹调室中任意食物的成分的加热源、被开启和关闭以使用户能向烹调室放入食物和从烹调室取出食物的门。
在将放入烹调室的食物烹调完成后,剩余食物粘附在腔体的内壁上,因此需要清理腔体内部。
发明内容
技术问题
实施例提供一种烹调装置和烹调装置的控制方法。
解决问题的技术方案
在一个实施例中,烹调装置可以包括:加热源;输入单元,配置成输入所述加热源的多种运行模式,其中,所述多种运行模式中的至少一种是用以清理烹调装置腔体的清理模式;以及控制单元,配置成根据经由所述输入单元输入的运行模式使所述加热源运行;其中,所述输入单元包括选择单元,配置成允许用户选择所述多种运行模式中的具体模式。
在另一个实施例中,该烹调装置可以包括:腔体,配置成限定烹调室;加热源,配置成产生清理所述腔体的热量;输入单元,配置成至少在所述加热源清理所述腔体的第一运行模式和所述加热源烹调所述腔体中食物的第二运行模式之间选择;以及控制单元,配置成根据所述第一运行模式或第二运行模式控制所述加热源的运行;其中,在所述腔体的内表面上设置有包括基于磷酸盐的成分的搪瓷涂层。
在一个实施例中,烹调装置的控制方法可以包括:接收用以清理所述烹调装置的腔体的多种清理模式中的一种的标识;接收启动信号;根据与所接收到的清理模式相关联的预先定义的参数,开始所述加热源的运行;以及当所述加热源的运行时间达到根据所接收到的清理模式的预先定义的运行停止时间时,停止所述加热源的运行。
在附图和以下的说明书阐述了一个或多个实施例的细节。其他特征将从说明书、附图和权利要求中变得明显。
本发明的有益效果
根据实施例,腔体内部容易清理的状态得以维持,并且当最优清理状态显示在告警单元上时,用户能知道最优清理定时。因此,腔体能被很容易地清理。
附图说明
图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的透视图;
图2是图1所示的烹调装置的方框图;
图3是示出了根据本发明第一实施例的烹调装置的控制方法的流程图;
图4是示出了根据本发明实施例的在第一模式中温度随时间变化的曲线图;
图5是示出了根据本发明实施例的在第二模式中温度随时间变化的曲线图;
图6是示出了根据本发明实施例的在第三模式中温度随时间变化的曲线图;
图7是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对水温的测量曲线图;
图8是示出了根据本发明实施例的基于普通搪瓷和包括基于磷酸盐的成分的搪瓷的清理性能对渗透时间的测量曲线图;
图9是根据本发明第二实施例的烹调装置的示意图;
图10是图9所示的喷嘴的截面图;
图11是示出了根据本发明第二实施例的烹调装置的控制方法的流程图;
图12是示出了根据本发明第三实施例的在第二模式下温度随时间变化的曲线图。
具体实施方式
现在详细参考本公开文件的实施例,其示例在附图中示出。
在以下优选实施例的描述中,参考构成实施例一部分的附图,并且,通过示意的方式展示了可以实施本发明的具体的优选实施例。对这些实施例进行了足够详细的描述,使得本领预技术人员能够实施本发明,并且可以理解的是,也可以使用其他实施例,并且在不脱离本发明的精神或范围的情况下,可以进行逻辑结构、化学、电学和化学改变。为了避免对本领域技术人员实施本发明而言避免不必要的细节,说明书中可以省略本领域技术人员已知的某种信息。因此,以下详细的描述并不用于限制,本发明的范围只由所附权利要求来限定。
图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的透视图,图2是图1所示的烹调装置的方框图。图1显示根据本发明实施例的烹调装置1的门14处于打开的状态。
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