[发明专利]用于吸脂的方法和装置无效
申请号: | 201080015023.X | 申请日: | 2010-03-18 |
公开(公告)号: | CN102378602A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | H·埃普施泰因;B·瓦因伯格;G·纳赫肖恩 | 申请(专利权)人: | 赛诺龙医疗公司 |
主分类号: | A61B18/14 | 分类号: | A61B18/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘兴鹏 |
地址: | 以色列雅克*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 方法 装置 | ||
1.一种用于美容和身体塑形工艺的装置,所述装置包括:
-探头,其具有细长的激光辐射传导本体,所述本体的远端操作时插入组织体积;所述远端由至少一个电极端接;并且其中,探头的近端由操作时接收一种或多种类型的RF电压和激光辐射的连接器端接;
-外部电极,其构造为操作时与皮肤表面持续接触并且具有实质上大于所述至少一个电极的面积;
-至少一个RF电压源以及至少一个激光辐射源,所述RF电压源构造为在所述至少一个电极与外部电极之间提供至少一种类型的RF电压。
2.根据权利要求1的装置,其中,外部电极表面实质上大于所述至少一个电极的表面,并且其中,外部电极是柔性电极或电极格栅。
3.根据权利要求1的装置,还包括用于监视所述至少一个电极和外部电极之间的阻抗的机构。
4.根据权利要求1的装置,其中,所述至少一个电极是一对电极,并且其中,用于监视阻抗的机构还监视所述一对电极的电极之间的阻抗。
5.根据权利要求1的装置,其中,探头操作时将由RF电压、光学辐射以及它们两种的组合所构成的一组处理能量的至少其中之一施加至组织。
6.根据权利要求4的装置,其中,端接探头的所述一对电极是由平状电极、圆柱形电极、半圆形电极以及同心电极构成的一组的至少其中之一。
7.根据权利要求4的装置,其中,定位于探头远端的所述一对电极布置为改变它们之间的距离。
8.根据权利要求4的装置,其中,RF电压源操作时在定位于探头远端的所述一对电极之间施加高功率RF电压。
9.根据权利要求4的装置,还包括说明所述一对电极之间的阻抗的变化的机构,以指示处理工艺进度、处理终点以及被处理体积的温度。
10.根据权利要求1的装置,其中,还包括操作时指示被处理组织的类型的机构。
11.根据权利要求4的装置,其中,在定位于探头远端的所述一对电极与外部电极之间供应的RF电压具有至少一个不同的参数,所述参数至少由来自定位于探头远端的所述一对电极之间所供应电压的RF电压振幅或RF电压频率构成。
12.根据权利要求1的装置,还包括具有冷却流体传导通道的探头,所述冷却流体传导通道构造为使冷却流体输送至探头的远端。
13.根据权利要求1的装置,其中,RF电压源以脉冲模式或以连续模式供应RF能量,并且其中,激光辐射源以脉冲模式或以连续模式供应激光辐射。
14.根据权利要求1的装置,还包括操作时测量作用在探头上的力的负荷传感器。
15.一种用于美容和身体塑形工艺的装置,所述装置包括:
-探头,其具有细长的激光辐射传导本体,所述本体的远端构造用于插入组织体积并且由一对电极端接,并且其中,探头的近端由负荷传感器和操作时接收一种或多种类型的RF电压和激光辐射的连接器端接;
-外部电极,其操作时与皮肤表面持续接触并且具有实质上大于所述一对电极的每一个的面积;
-至少一个RF电压源以及至少一个激光辐射源,所述RF电压源构造为在电极之间提供至少一种类型的RF电压。
16.根据权利要求15的装置,其中,外部电极表面实质上大于所述一对电极的每个的表面,并且其中,外部电极是由柔性电极或电极格栅构成的一组电极的至少其中之一。
17.根据权利要求15的装置,还包括:用于监视所述一对电极的至少一个电极与外部电极之间以及所述一对电极的电极之间的阻抗的机构。
18.根据权利要求15的装置,其中,探头构造为将由RF电压、光学辐射以及它们的组合构成的一组处理能量的至少其中之一施加至组织。
19.根据权利要求15的装置,其中,端接探头的所述一对电极是由平状电极、圆柱形电极、半圆形电极以及同心电极构成的一组的至少其中之一。
20.根据权利要求15的装置,其中,定位于探头远端的所述一对电极布置为改变它们之间的距离。
21.根据权利要求15的装置,其中,探头构造为在定位于远端的所述一对电极之间施加高功率RF电压。
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