[发明专利]成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置有效
申请号: | 201080015414.1 | 申请日: | 2010-03-16 |
公开(公告)号: | CN102378935A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 约翰尼斯.泽尔纳;奥雷利安.多多克;马科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.门克;威廉.乌尔里克;汉斯-于尔根.曼 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 光学 部件 以及 具有 类型 用于 微光 投射 曝光 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有多个反射镜的成像光学部件,其将物平面中的物场成像在像平面中的像场中,并在布置在物平面和像平面之间的光瞳平面中具有光阑。此外,本发明还涉及具有此类型的成像光学部件的投射曝光装置、用于利用此类型的投射曝光装置制造微结构组件的方法、以及通过此方法制造的微结构或纳结构组件。
背景技术
US 7,414,781和WO 2007/020004A1中公开了开头所提及的类型的成像光学部件。
发明内容
本发明的目的是开发一种开头所提及的类型的成像光学部件,使得实现小成像误差、可管理的制造以及成像光的良好通过量的可处理组合。
根据本发明的第一方面通过具有权利要求1中所公开的特征的成像部件实现此目的。
根据本发明,认识到相对于物平面倾斜的光瞳平面提供如下可能性:将布置在那里的光阑也布置为相对于该物平面相应地倾斜而不损失遮蔽质量,以及引导成像光束经过倾斜的光阑,使得相对于现有技术可以实现小的最大入射角,尤其是在成像光学部件的成像光束路径中与倾斜光瞳平面相邻的反射镜上。这些最大入射角可以小于35°,小于30°,小于25°,并可以是例如22.2°和18.9°。这使得可以在反射镜上使用高反射膜,其关于成像光的入射角仅需要相对小的带宽容限。从而可以产生具有高成像光总通过量的成像光学部件。即,在通过量损失必须避免的情况特别有利,例如当使用EUV(极紫外)光作为成像光时。倾斜光瞳平面与物平面之间的角度可以大于1°,大于10°,大于20°,大于30°,大于40°,大于45°,并且尤其是未47°。成像光学部件可以具有超过1个光瞳平面。在此情况中,根据本发明,这些光瞳平面中的至少一个是倾斜的。布置在倾斜光瞳平面中的光阑可以是用于指定成像光学部件的光瞳的外边缘形状的孔径光阑和/或用于规定光瞳的内部的遮掩的遮挡光阑。一般地,成像光学部件的光瞳是指限定成像光束路径边界的孔径光阑的所有像。这些像所在的平面被称为光瞳平面。然而,孔径光阑的像不一定是精确平面的,作为概括,大致对应于这些像的平面也被称为光瞳平面。孔径光阑本身的平面也被称为光瞳平面。如果孔径光阑不是平面,如在孔径光阑的像中一样,则最与孔径光阑一致的平面被称为光瞳平面。成像光学部件具有超过4个反射镜。与具有最多4个反射镜的成像光学部件相比,这允许成像光绪部件的设计的更大灵活度,并且还提供了最小化成像误差的更多自由度。成像光学部件可以准确地具有6个反射镜。
成像光学部件的入瞳是指孔径光阑被成像光学部件中位于物平面与孔径光阑之间的部分成像所产生的孔径光阑的像。因此,出瞳是孔径光阑被成像光学部件中位于像平面与孔径光阑之间的部分成像所产生的孔径光阑的像。
如果入瞳是孔径光阑的虚像,即入瞳平面位于物场的前方,则称为入瞳的负后焦点。在此情况中,对于所有物场点的主光学或主光束似乎来自于成像光学路径前方的点。对于各个物点的主光线被定义为该物点与入瞳的中心点之间的连接光束。在存在入瞳的负后焦点的情况下,对于所有物点的主光线因此在物场上具有发散的光束轨迹。
光瞳的另一替代定义是成像光学部件的成像光束路径中的区域,在该区域中从物场点发出的单独光束相交,该相交点对于从这些物场点发出的主光线而言分别与同一照明角对应。根据该替代光瞳定义,单独光束的相交点所位于的平面或者最接近这些相交点(它们不一定精确地位于一平面中)的空间分布的平面被称为光瞳平面。
根据权利要求2的布置简化了具有成像光学部件的总体装置的结构。
根据权利要求3的布置避免了渐晕的问题。例如,如果倾斜光瞳平面被直接布置在反射镜之一处或反射镜上,则可能出现此类型的问题,从而,到该反射镜上的成像光束以及被该反射镜反射的成像光束被光阑遮掩,这对应于孔径光阑的双通过。倾斜光瞳平面的光瞳的单通过可以被用于成像光束的光瞳形成。
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