[发明专利]透射型体全息记录介质及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有叠层结构的透射型体全息记录介质及其制造方法。更详细地，本发明涉及一种透射型体全息记录介质及其制造方法，所述透射型体全息记录介质通过双光束干涉法进行全息记录，其衍射效率优异，且可显著抑制一级衍射光以后的引起噪音的衍射光强度。

背景技术

由于体全息图能够以三维形式表现物体、具有高衍射效率和波长选择性、并需要高度的制造技术等，因而已被广泛应用于设计、安全、光学元件等用途。体全息图可通过下述方法制作：使相干性(可干涉性)高、波长相等的物光和参考光产生干涉，并入射至体全息记录用材料，从而在材料内部以干涉条纹形式记录与物体有关的三维信息。该干涉条纹作为与干涉光的明暗部分相对应的折射率调制(変調)而被记录下来。由于具有上述特性，近年来，作为大容量记录介质全息存储器受到关注，作为全息记录材料，正在寻求高衍射效率、低固化收缩和高灵敏度等。

例如，在专利文献1中，公开了一种在相同或不同的2个透明支持体之间具有记录层的体全息记录介质，所述记录层由包含常温下为液态的阳离子聚合性化合物、自由基聚合性化合物、自由基光聚合引发剂和阳离子聚合引发剂的感光性组合物构成。该文献中记载的方法是反射型的全息记录方式，在艺术用途、安全用途中具有优异的特性。然而，人们指出其对大容量化不具有充分的适应性、记录后再生时需要机械补正等问题。

全息记录大致分为反射型和透射型。上述文献记载的方法是将记录光和参考光从相反方向(面)射入记录介质，并利用衍射光的记录方法。另一方面，透射型是指记录光和参考光从相同方向(面)射入，并利用干涉光的记录方法。由干涉光形成的衍射光栅的方向，如果是反射型则平行于面形成，如果是透射型则垂直于面形成，因此，特别地为了实现高容量化，优选可以有效利用在厚度方向记录的透射型。此外，激光进入记录介质的情况下，在深度方向光逐渐被吸收，其强度衰减，因此，在反射型的情况下，通过衰减的激光干涉形成衍射光栅，因而与透射型相比需要更强的曝光能量。进一步，反射型中存在仅利用激光感光的部分，不能有效地使用单体，因此，在面向数TB以上的高容量化的利用中还存在问题。特别地，在使用不同种类的基板时，存在由基板的厚度和折射率之差引起的记录部位与再生位置的略微偏离的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-34334号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供一种用于双光束全息记录方式的透射型体全息记录介质及其简便的制造方法，所述体全息记录介质衍射效率高，并可显著抑制一级衍射光以后的引起噪音的衍射光强度。

解决问题的方法

本发明人等为了解决上述问题而进行了深入研究，结果发现，在双光束干涉型透射型全息记录方式中，如果使用具有将体全息记录层夹持在2种不同的透明基体材料中的结构的体全息记录介质，则与以往的在相同材质的透明基体材料中夹入体全息记录层的记录介质相比，可获得优异的衍射效率，同时可显著抑制一级衍射光以后的引起噪音的衍射光强度。本发明基于上述见解而完成。

也就是说，本发明提供一种透射型体全息记录介质，其具有以下结构：将由体全息记录用感光性组合物构成的体全息记录层夹持在相对的不同种材质的基体材料之间。

在该透射型体全息记录介质中，夹持体全息记录层的基体材料均在可见光区域内具有透明性，且优选厚度在2～2000μm的范围。此外，优选夹持体全息记录层的2种基体材料的折射率之差为0.001～0.5。进一步，优选夹持体全息记录层的2种基体材料的厚度之差在1～1500μm的范围。

此外，相对于一级衍射光强度，全息图再生时的二级衍射光强度优选为10％以下。

本发明还提供一种透射型体全息记录介质的制造方法，该方法包括：在不同种材质的基体材料之间形成由体全息记录用感光性组合物构成的体全息记录层。

该透射型体全息记录介质的制造方法，可以包括以下步骤：在一个基体材料上涂布体全息记录用感光性组合物，并将形成的涂布层用与上述基体材料不同种材质的基体材料进行覆盖。在这种情况下，可以包括以下步骤：将形成于基体材料上的涂布层中的溶剂干燥除去，然后使用与上述基体材料不同种材质的基体材料进行覆盖。

发明的效果

与以往的在相同材料的透明基体材料中夹入体全息记录层的透射型体全息记录介质相比，使用本发明的透射型体全息记录介质可获得优异的衍射效率，同时可显著抑制引起噪音的衍射光强度，一级衍射光和二级衍射光的分离性优异。