[发明专利]稠合吡咯并吡啶衍生物

权利要求书

1.式(I)所示的化合物或其盐，

式中，

A为可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、或可被取代的含氮杂环基；

X为CR^X或N，

R^X为H、OR^XY1、NR^XY2R^XY3、SR^XY4、卤素、氰基、或低级烷基、芳基或杂环基；

Y为H、OR^XY1、NR^XY2R^XY3、SR^XY4、卤素、氰基、可被取代的低级烷基、可被取代的芳基、或可被取代的杂环基；

Z为H或低级烷基；

R^XY1、R^XY2、R^XY3及R^XY4彼此相同或不同，为H或低级烷基；

R¹为H、OH、-(CR¹¹R¹²)_m-R¹³、-SO₂-R¹⁴、或可被取代的杂环基，

R¹¹和R¹²彼此相同或不同，为H、卤素、OH、可被取代的低级烷基、可被取代的芳基、或可被取代的杂环基，

R¹¹和R¹²可以成为一体而形成氧代(＝O)，或者

R¹¹和R¹²可以与它们所结合的碳原子成为一体而形成可被取代的环烷基，

R¹³为H、卤素、氰基、-NR^N1R^N2、或可被取代的芳基、可被取代的环烷基或可被取代的杂环基，

R^N1和R^N2彼此相同或不同，为H、可被取代的低级烷基、或可被取代的芳基，

R¹⁴为NR^N3R^N4、或可被取代的低级烷基、或可被取代的杂环基，

R^N3和R^N4彼此相同或不同，为H、可被取代的低级烷基或可被取代的芳基，

m为1、2、3或4。

2.权利要求1所述的化合物或其盐，其中

A为可被取代的环烷基、或可被取代的含氮杂环基；

X为CR^X或N，

R^X为H、OR^XY1、NR^XY2R^XY3、SR^XY4、卤素、氰基、或低级烷基、芳基或杂环基；

Y为H、OR^XY1、NR^XY2R^XY3、SR^XY4、卤素、氰基、或低级烷基、芳基或杂环基；

R^XY1、R^XY2、R^XY3及R^XY4彼此相同或不同，为H或低级烷基；

R¹为H、OH、-(CR¹¹R¹²)_m-R¹³、-SO₂-(可被取代的低级烷基)、或可被取代的杂环基，

R¹¹和R¹²彼此相同或不同，为H、卤素、OH、可被取代的低级烷基、可被取代的芳基或可被取代的杂环基，

R¹¹和R¹²可以成为一体而形成氧代(＝O)，

R¹¹和R¹²可以与它们所结合的碳原子成为一体而形成环烷基，

R¹³为H、卤素、氰基、-NR^N1R^N2、可被取代的芳基、可被取代的环烷基或可被取代的杂环基，

R^N1和R^N2彼此相同或不同，为H、可被取代的低级烷基或可被取代的芳基，

m为1、2、3或4。