[发明专利]用于光学透明基板的抗反射涂层

权利要求书

1.一种光学透明元件，其包括：

光学透明基板；和

在所述光学透明基板的至少一个表面上设置的抗反射涂层，所述抗反射涂层含有聚合物，所述聚合物包括：

至少一个四烷氧基硅烷残基；和

选自包含三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、单烷氧基硅烷及其组合构成的组中的至少一个的第二种烷氧基硅烷残基，其中所述聚合物中相对于聚合物的总摩尔数含有至少50％摩尔百分含量的所述至少一个四烷氧基硅烷残基，且所述涂层中含有平均尺寸不大于100nm的聚合物粒子。

2.如权利要求1所述的光学透明元件，其中所述至少一个烷氧基硅烷残基是四乙氧基硅烷。

3.如权利要求1-2中任一项所述的光学透明元件，其中所述第二种烷氧基硅烷残基是选自由甲基三乙氧基硅烷和乙烯基三乙氧基硅烷构成的组。

4.如权利要求1-3中任一项所述的光学透明元件，其中所述至少一个四烷氧基硅烷残基是四乙氧基硅烷，且所述第二种烷氧基硅烷是甲基三乙氧基硅烷。

5.如权利要求4所述的光学透明元件，其进一步包含乙烯基三乙氧基硅烷残基。

6.如权利要求1-5中任一项所述的光学透明元件，其中所述聚合物进一步含有金属醇盐残基。

7.如权利要求1-6中任一项所述的光学透明元件，包含至少约20％摩尔百分含量的所述第二种烷氧基硅烷残基。

8.如权利要求1-7中任一项所述的光学透明元件，其进一步包含邻近所述光学透明元件设置的至少一个半导体层。

9.一种形成光学透明元件的方法，其包括：

分配涂层溶液至光学透明基板上，所述涂层溶液由以下步骤形成：

混合至少第一种四烷氧基硅烷材料、第二种烷氧基硅烷材料、碱催化剂和溶剂，其中所述第二种烷氧基硅烷材料选自由三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、单烷氧基硅烷及其组合构成的组；

在足够的温度下维持涂层溶液的pH值一段充分的时间以形成具有约15nm到约100nm平均粒子尺寸的聚合物粒子，和

降低所述涂层溶液的pH值到低于约5.0；和

固化所述分配的涂层溶液以在所述光学透明基板上形成抗反射涂层。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述碱催化剂包括至少一种季铵。

11.如权利要求9-10中任一项所述的方法，其中所述碱催化剂包括四丁基铵氢氧化物、四甲基铵氢氧化物或其组合。

12.如权利要求9-11中任一项所述的方法，其中所述涂层溶液在降低pH值之前被维持在约35℃到约70℃之间约1小时到约5小时。

13.如权利要求9-12中任一项所述的方法，，其中所述pH值被降至不大于2.0。

14.如权利要求9-13中任一项所述的方法，其在分配之前，进一步含有在液态或冻结状态下存储该涂层溶液至少约24小时的步骤。

15.如权利要求9-14中任一项所述的方法，其中所述涂层溶液通过喷雾分配。